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Calibre EUV
Un support complet pour relever les défis uniques liés à l'EUV à haute teneur en NA, tels que l'optique anamorphique et la modélisation 3D des masques pour tenir compte des effets d'ombre.
Lithographie informatique Calibre
La demande insatiable de circuits intégrés (CI) continue de réduire les dimensions critiques. Les procédés de photolithographie, y compris les ultraviolets extrêmes (EUV), présentent une complexité et un volume de données de plus en plus importants. Nos solutions de lithographie informatique permettent une mise en œuvre technologique rentable.
Produits de Lithographie Computationnelle Calibre
Les défis lithographiques et la complexité informatique associés aux nœuds de processus avancés nécessitent des fonctionnalités avancées en matière de logiciels et de matériel de lithographie informatique. La solution Calibre offre une précision, une rapidité et un coût de possession exceptionnels.
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Calibre nMOPC
Proximité optique dense et correction du processus pour permettre une fabrication submicronique en profondeur.
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Calibre NMSRAF
Insère des fonctionnalités d'assistance à la sous-résolution (SRAF) dans un design.
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Calibre OPCVerify
Simulation complète et analyse lithographique puissantes.
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Calibre WorkBench
Interface graphique utilisée pour lancer une grande variété d'applications et afficher les résultats.
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Calibre NM ModelFlow
Moteur de calibrage hautement évolutif pour les modèles optiques, de résistance et de gravure.
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Calibre PxOPC
Correction optique de proximité rapide et inversée basée sur les pixels.
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Calibre pXsmo et RET Selection
Interface graphique facile à utiliser pour optimiser la source d'éclairage.