La lithographie EUV, ou ultraviolet extrême, est une technologie qui utilise une très petite longueur d'onde lumineuse (13,5 nm) pour imprimer des images sur des plaquettes de silicium. C'est nécessaire car la petite longueur d'onde de l'EUV, étant inférieure à la taille des caractéristiques, facilite grandement l'impression et est essentielle pour obtenir une résolution de motif pour les nœuds technologiques de fabrication avancés tels que 5 nm, 3 nm et au-delà.

Calibre modélise tous les effets optiques EUV uniques, tels que le flare, qui inclut des effets à courte et longue portée. Calibre prend en charge la génération de modèles dynamiques pour la méthode de décomposition des domaines afin de permettre de modéliser en continu l'angle azimutal, les aberrations, l'apodisation et la variation de la source sur la fente sans perte de précision. Les effets de masque 3D tels que l'effet d'ombre causé par l'absorbeur de masque épais et l'éclairage hors axe, qui varie selon la fente, peuvent être compensés avec précision. Calibre modélise également l'effet de bordure noire afin d'éliminer son impact sur l'imagerie via OPC. Calibre est également préparé pour High NA EUV. Calibre est doté de nouvelles fonctionnalités destinées à soutenir l'optique anamorphique, de la modélisation à l'OPC.

Les SRAF sont probablement obligatoires pour le nœud 5 nm et moins en lithographie EUV. Les SRAF ont un impact positif sur la pente du log de l'image (ILS), réduisant ainsi la rugosité des bords de ligne (LER) et améliorant la profondeur de mise au point (DOF). En raison de l'éclairage hors axe de l'EUV et des effets d'ombrage variables dus à la division, des SRAF asymétriques peuvent être nécessaires à la fois dans le sens horizontal et vertical, et des SRAF différents peuvent être nécessaires à différents endroits des fentes.

La solution SRAF de Calibre peut utiliser des modèles EUV pour le placement du SRAF. Le calibre PxOPC peut générer des SRAF asymétriques et peut être ajusté pour cibler le DOF, l'ILS ou une combinaison d'objectifs. Calibre nMSRAF peut générer des SRAF basées sur des règles en utilisant les résultats PxOPC comme modèle et peut placer les SRAF de manière asymétrique. Le calibre NMcLsraf offre de la flexibilité pour les formes SRAF de forme libre grâce au moteur de lithographie inverse. Il applique les modèles de manière séquentielle, nettoie les conflits MRC et peut générer des SRAF curvilinéaires sur les masques EUV.

L'EUV à haute NA (ouverture numérique) est une évolution de la lithographie EUV (de 0,33 NA aujourd'hui à >= 0,5 NA) qui est requise pour obtenir une résolution de motif pour les nœuds technologiques avancés. Calibre est déjà prêt pour High NA EUV. Les produits de modélisation et de synthèse de masques de Calibre prennent déjà en charge l'optique anamorphique, de la modélisation à l'OPC en passant par le MPC/MDP. Le Calibre EUV OPC à motifs multiples a fait ses preuves dans la fabrication et Calibre Source Mask Optimization (SMO) inclut également des fonctionnalités avancées pour l'EUV à haute teneur en NA.

Calibre propose un flux de conception complet jusqu'à la fabrication pour les applications EUV. Les solutions EUV de Calibre répondent aux défis en fournissant :

Support de modélisation complet pour EUV - La technologie de modélisation de Calibre prend pleinement en charge tous les effets EUV, y compris les effets de lumière, les effets de bordure noire et les effets de masque 3D.

Suite de produits complète - Tous les effets modélisés sont pris en compte dans les produits Calibre tels que Calibre PxSMO, Calibre PxOPC, Calibre nMopC, Calibre NMSraf et Calibre OPCVerify, qui sont utilisés dans Tapeout aujourd'hui.

Traitement hiérarchique des données - Le flux EUV du calibre est conçu selon la hiérarchie principale tout en utilisant des modèles EUV mondiaux complets, ce qui permet un flux OPC rapide et précis.

Traitement curvilinéaire des données - Les Solutions de préparation de données curvilinéaires Calibre peuvent être activées sur l'ensemble du flux de retrait des masques EUV.

Tirez parti de l'IA pour améliorer la précision du prochain nœud - Calibre EUV intègre des techniques avancées d'apprentissage automatique visant à accélérer la synthèse des masques, ce qui permet d'améliorer considérablement la durée de fonctionnement tout en préservant la qualité de la lithographie.