Calibre Curvilinear MDP

下一代光刻工艺的图案化要求以及降低制造成本的需求促使光刻师探索曲线掩模的优势。得到实验结果支持的多项研究表明，曲线光掩模相对于直线近似值具有光刻优势。由于可变形状光束写入器的架构，曲线掩模的可制造性受到限制，这使得从掩模数据准备和掩模写入的角度来看，曲线掩模的可制造性都令人望而却步。多光束口罩打印机的出现消除了这些障碍，使曲线口罩的推出更接近现实。

阅读 向前弯曲！集成电路制造为曲线掩模做准备 以了解有关曲线面具的好处的更多信息。

Calibre Curvilinear MDP 工具套件允许在一次批量运行中无缝地进行分辨率增强技术 (RET) 所需的数据操作，例如亚分辨率辅助功能 (SRAF) 插入和光学过程校正 (OPC)，以及掩模过程校正 (MPC) 到掩码数据格式的转换。

传统上，多波束掩模编写器在其数据路径中支持分段线性 (PWL) 数据。最近，多光束掩模编写器供应商在新一代多光束掩模编写器工具上引入了原生多重分支支持。multigon 的目的是使用原生曲线格式表示曲线数据，以便在掩码流中压缩文件大小。用于表示多边形数据的顶点数量明显少于用于表示分段线性数据的顶点数量，这导致使用原生曲线来处理曲线数据会减小文件大小。

下图显示了左边的 PWL 和右边的多边形的示例。

Calibre Curvilinear MDP 解决方案支持基于多重的多波束断裂流，并支持最新的多波束格式，例如 IMS 的 MBW 3.0 和 NuFlare 的 MBF 2.1。

• 多角距离检查：多角距离校验旨在测量多边形层上样条截面之间的距离，确保符合设计约束。
• 多边形深度宽度和深度宽度比率检查：深度宽度检查可确保多边形的最小宽度在可接受的范围内，特别是在给定深度范围内测量时。
• 多边形角度检查：角度检查通过计算指定半径下每个兴趣点 (POI) 处的样条角度来评估多边形的几何形状。
• 多角曲率检查：曲率检查旨在通过计算沿其轮廓的最小曲率半径，评估多边形内每个贝塞尔样条曲线部分的平滑度和弯曲质量。

上图显示了外部距离检查（左上）、内部距离检查（右上）、尖峰检测（左下）和深度宽度检查（右下方）的示例。