Calibre Curvilinear Solutions

Calibre NMCLBias是经过量产测试的Calibre NMBias工具的曲线版本，可为曲线设计提供流畅的偏差结果和基于质量规则的重定向。

Calibre NmcLOPC 对曲线边缘进行基于模型的光学近距离校正，以实现高保真度、流畅和一致的输出，完全符合掩模规则。

Calibre NMCLMPC 支持曲线掩模工艺校正，以满足先进节点曲线掩模制造对处理时间和掩模图案保真度的期望。

Calibre NMCLSRAF可以根据Calibre ILT引擎生成的反向光刻（ILT）结果执行基于规则的曲线SRAF插入。

Calibre Curvilinear MDP 产品套件为曲线掩模提供了完整的掩膜数据准备流程，并为 MPC、MDP 和 OPC 提供了无缝连接。

为曲线 MRC 和验证提供全面支持，涵盖口罩合成和制备流程的各个阶段。