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Calibre Computational Lithography

对集成电路（IC）的无限需求继续推动关键尺寸的缩小。光刻工艺，包括极紫外线 (EUV)，呈现出越来越多的复杂性和数据量。我们的计算光刻解决方案可实现具有成本效益的技术支持。

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Calibre Computional Lithography 产品

光刻挑战和与高级工艺节点相关的计算复杂性都要求计算光刻软件和硬件方面的高级功能。Calibre 解决方案提供一流的精度、速度和拥有成本。

装在塑料支架盒中的硅晶片
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Calibre EUV

全面支持应对高 NA EUV 的独特挑战，例如变形光学和掩膜 3D 建模以考虑阴影效应。