
Calibre EUV
Sveobuhvatna podrška u rešavanju jedinstvenih izazova EUV visoke DNK, kao što su anamorfna optika i 3D modeliranje maski kako bi se uzeli u obzir efekti senčenja.
Nezasitna potražnja za integrisanim krugovima (IC) nastavlja da pokreće manje kritične dimenzije. Procesi fotolitografije, uključujući ekstremno ultraljubičasto zračenje (EUV), predstavljaju sve veću složenost i obim podataka. Naša rešenja za računarsku litografiju omogućavaju isplativo omogućavanje tehnologije.
litografski izazovi i računarska složenost povezana sa naprednim procesnim čvorovima stvaraju potrebu za naprednim mogućnostima u softveru i hardveru računarske litografije. Rešenje Calibre nudi najbolju tačnost, brzinu i troškove vlasništva u klasi.

Gusta optička blizina i korekcija procesa kako bi se omogućila proizvodnja dubokih submikrona.
Ubacuje pomoćne funkcije podrezolucije (SRAF) u dizajn.
Moćna simulacija punog čipa i litografska analiza.

GUI se koristi za pokretanje širokog spektra aplikacija i za pregled rezultata.

Visoko skalabilni kalibracioni motor za optičke, otporne i nagrizane modele.
Brza, inverzna korekcija optičke blizine zasnovana na pikselima.
Jednostavan za upotrebu GUI za optimizaciju izvora osvetljenja.