EUV, ili Ektreme Ultraviolet, litografija je tehnologija koja koristi veoma malu talasnu dužinu svetlosti (13,5 nm) za štampanje slika na silikonskim pločama. Potreban je jer mala talasna dužina EUV-a, koja je manja od veličine funkcije, čini štampanje mnogo lakšim i neophodna je za postizanje rezolucije uzoraka za čvorove napredne proizvodne tehnologije poput 5nm, 3nm i više.

Calibre modelira sve jedinstvene EUV optičke efekte kao što je bljeskalica, koja uključuje efekte kratkog i dugog dometa. Calibre podržava generisanje dinamičkog modela za metodu dekompozicije domena kako bi se omogućilo kontinuirano modeliranje azimutalnog ugla, aberacija, apodizacije i varijacije izvora kroz prorez bez gubitka tačnosti. Efekti 3D maske kao što je efekat senčenja izazvan debelim apsorberom maske i osvetljenje van ose, koje varira po prorezu, mogu se tačno kompenzirati. Calibre takođe modelira efekat crne ivice kako bi eliminisao njegov uticaj na snimanje putem OPC-a. Kalibar je takođe pripremljen za High NA EUV. Calibre je opremljen novim karakteristikama i funkcionalnostima za podršku anamorfnoj optici od modeliranja do OPC-a.

SRAF-ovi su verovatno uslov za 5nm čvor i niže u EUV litografiji. SRAF-ovi imaju pozitivan uticaj na nagib dnevnika slike (ILS) čime se smanjuje hrapavost ivica linije (LER) i povećava dubinu fokusa (DOF). Zbog EUV-ovog osvetljenja van ose i različitih efekata senčenja kroz podelu, asimetrični SRAF-ovi mogu biti potrebni i u horizontalnom i vertikalnom pravcu, a različiti SRAF-ovi mogu biti potrebni na različitim mestima proreza.

Calibreovo SRAF rešenje može koristiti EUV modele za postavljanje SRAF -a. Calibre pxOPC može generisati asimetrične SRAF-ove i može se prilagoditi ciljanim DOF, ILS ili mešavini ciljeva. Calibre nmSRAF može da generiše SRAF-ove zasnovane na pravilima koristeći PkSOpc rezultate kao šablon i može postaviti SRAF-ove asimetrično. Calibre NMCLsRAF pruža fleksibilnost za oblike SRAF slobodnog oblika iz motora Inverse Lithography. On uzastopno primenjuje šablone, vrši čišćenje MRC sukoba i može generisati krivolinijske SRAF-ove na EUV maskama.

Visoki NA (numerički otvor blende) EUV je evolucija EUV litografije (od današnjih 0,33 NA do >= 0,5 NA) koja je potrebna za postizanje rezolucije uzorka za čvor napredne tehnologije. Kalibar je već pripremljen za High NA EUV. Calibreovi proizvodi za modeliranje i sintezu maski već podržavaju anamorfnu optiku od modeliranja preko OPC-a do MPC/MDP. Calibre EUV OPC sa više uzoraka je dokazano u proizvodnji, a optimizacija maski izvora kalibra (SMO) takođe uključuje napredne funkcije za EUV sa visokim NA-om.

Calibre nudi kompletan dizajn kroz proizvodni tok za EUV aplikacije. Calibreova EUV rešenja rješavaju izazove pružajući:

Potpuna podrška za modeliranje za EUV - Calibreova tehnologija modeliranja u potpunosti podržava sve EUV efekte, uključujući bljeskalicu, efekat crne ivice i efekte 3D maske.

Sveobuhvatni paket proizvoda - Svi modelirani efekti su uzeti u obzir u proizvodima Calibre kao što su Calibre PKSMO, Calibre pxOPC, Calibre nmOPC, Calibre nmSRAF i Calibre OPCverify OpcVerifi, koji se danas koriste u tapeoutu.

Hijerarhijska obrada podataka - Calibre EUV protok je dizajniran prema glavnoj hijerarhiji uz korišćenje punih globalnih EUV modela, omogućavajući brz i tačan OPC protok.

Krivolinijska obrada podataka - Solutions za pripremu podataka Calibre Curvilinear mogu se omogućiti tokom celog protoka trake EUV maske.

Iskoristite AI za tačnost sledećeg čvora - Calibre EUV uključuje napredne tehnike mašinskog učenja za ubrzavanje sinteze maski, nudeći značajna poboljšanja tokom rada uz održavanje kvaliteta litografije.