Scriitorii de mască cu mai multe fascicule (MBMW) permit utilizarea formelor curbiliniare ideale pentru măștile de litografie inversă (ILT), dar formatele actuale de aspect nu sunt suficiente pentru a reprezenta proiectele ILT complexe în mod eficient de la corecția de proximitate optică (OPC) până la realizarea măștilor. În 2019, am inițiat un grup de lucru pentru formatul de date pentru a aborda nevoia de reprezentare curbiliniară a datelor pentru MBMW. Grupul de lucru Curvilinear Data Format are membri din companii EDA și producători avansați de măști. În această lucrare, va fi introdusă necesitatea unui nou format de date curbiliniare și obiectivele grupului nostru de lucru. Vom discuta despre progresul și planul grupului de lucru. O versiune a acestei lucrări a fost prezentată la conferința IEEE SPIE din 2021 și publicată în lucrările conferinței.
