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Calibre EUV
Suporte abrangente que aborda os desafios exclusivos do EUV com alto teor de NA, como óptica anamórfica e modelagem 3D de máscara para considerar os efeitos de sombreamento.
Calibre Computational Lithography
A demanda insaciável por circuitos integrados (ICs) continua gerando dimensões críticas menores. Os processos de fotolitografia, incluindo ultravioleta extremo (EUV), apresentam cada vez mais complexidade e volume de dados. Nossas soluções de litografia computacional permitem a capacitação econômica de tecnologia.
Produtos de Litografia Computacional Calibre
Tanto os desafios litográficos quanto a complexidade computacional associada aos nós de processo avançados criam a necessidade de recursos avançados em software e hardware de litografia computacional. A solução Calibre oferece a melhor precisão, velocidade e custo de propriedade da categoria.
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Calibre nmOPC
Proximidade óptica densa e correção de processo para permitir a fabricação submicrônica profunda.
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Calibre nmSRAF
Insere recursos de assistência à sub-resolução (SRAFs) em um design.
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Calibre OPCverify
Poderosa simulação de chip completo e análise litográfica.
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Calibre WORKbench
GUI usada para lançar uma ampla variedade de aplicativos e visualizar os resultados.
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Calibre NM ModelFlow
Mecanismo de calibração altamente escalável para modelos ópticos, de resistência e corrosão.
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Calibre pxOPC
Correção óptica de proximidade rápida baseada em pixels inversos.
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Calibre pxSMO and RET Selection
GUI fácil de usar para otimização da fonte de iluminação.