A litografia EUV, ou Ultravioleta Extremo, é uma tecnologia que usa um comprimento de onda de luz muito pequeno (13,5 nm) para imprimir imagens em pastilhas de silício. É necessário porque o pequeno comprimento de onda do EUV, sendo menor que o tamanho do recurso, torna a impressão muito mais fácil e é essencial para obter a resolução de padrões em nós de tecnologia de fabricação avançada, como 5 nm, 3 nm e além.

O Calibre modela todos os efeitos ópticos EUV exclusivos, como reflexos, que incluem efeitos de curto e longo alcance. O Calibre suporta a geração dinâmica de modelos para o método de decomposição de domínio para permitir a modelagem contínua do ângulo azimutal, aberrações, apodização e variação da fonte na fenda sem perda de precisão. Os efeitos da máscara 3D, como o efeito de sombreamento causado pelo absorvedor de máscara espesso e pela iluminação fora do eixo, que varia na fenda, podem ser compensados com precisão. O Calibre também modela o efeito de borda preta para eliminar seu impacto na imagem por meio do OPC. O Calibre também está preparado para High NA EUV. O Calibre está equipado com novos recursos e funcionalidades para suportar óptica anamórfica desde a modelagem até o OPC.

Os SRAFs são provavelmente um requisito para o nó de 5 nm e abaixo na litografia EUV. Os SRAFs têm um impacto positivo no Image Log Slope (ILS), reduzindo assim a rugosidade da borda da linha (LER) e aumentando a profundidade de foco (DOF). Devido à iluminação fora do eixo do EUV e aos vários efeitos de sombreamento por meio da divisão, SRAFs assimétricos podem ser necessários nas direções horizontal e vertical, e diferentes SRAFs podem ser necessários em diferentes locais de fenda.

A solução SRAF da Calibre pode usar modelos EUV para colocação de SRAF. O Calibre PXOpc pode gerar SRAFs assimétricos e pode ser ajustado para atingir DOF, ILS ou uma combinação de objetivos. O Calibre NMSRaf pode gerar SRAFs baseados em regras usando os resultados do PxOpc como modelo e pode colocar os SRAFs de forma assimétrica. O Calibre NMCLSRAF oferece flexibilidade para formas SRAF de formato livre a partir do motor de litografia inversa. Ele aplica modelos sequencialmente, realizando a limpeza de conflitos de MRC e pode gerar SRAFs curvilíneos em máscaras EUV.

High NA (Abertura Numérica) EUV é uma evolução da litografia EUV (dos atuais 0,33 NA para >= 0,5 NA) que é necessária para alcançar a resolução de padrões para nós de tecnologia avançada. O Calibre já está preparado para o High NA EUV. Os produtos de modelagem e síntese de máscaras da Calibre já suportam óptica anamórfica, desde a modelagem até o OPC e o MPC/MDP. O Calibre EUV OPC com vários padrões é comprovado pela fabricação e o Calibre Source Mask Optimization (SMO) também inclui recursos avançados para EUV de alto teor de NA.

O Calibre oferece um design completo por meio do fluxo de fabricação para aplicações EUV. As soluções EUV da Calibre abordam os desafios fornecendo:

Suporte completo de modelagem para EUV - A tecnologia de modelagem do Calibre suporta totalmente todos os efeitos EUV, incluindo brilho, efeito de borda preta e efeitos de máscara 3D.

Suíte de produtos abrangente - Todos os efeitos modelados são considerados em produtos Calibre, como Calibre PXSMO, Calibre PXOpc, Calibre NMopc, Calibre NMSRaf e Calibre OpcVerify, que são usados atualmente em tapeout.

Processamento hierárquico de dados - O fluxo EUV do Calibre é arquitetado de acordo com a hierarquia principal enquanto usa modelos EUV globais completos, permitindo um fluxo OPC rápido e preciso.

Processamento de dados curvilíneos - As Calibre Curvilinear Data Preparation Solutions podem ser ativadas em todo o fluxo de saída da fita adesiva da máscara EUV.

Aproveite a IA para obter a precisão do Next Node - O Calibre EUV inclui técnicas avançadas de aprendizado de máquina para acelerar a síntese de máscaras, oferecendo melhorias significativas no tempo de execução e mantendo a qualidade da litografia.