Produkt
all
Calibre EUV
Kompleksowe wsparcie w rozwiązywaniu unikalnych wyzwań związanych z wysokim poziomem RNA, takimi jak optyka anamorficzna i modelowanie 3D masek w celu uwzględnienia efektów cieniowania.
Calibre Computational Lithography
Nienasycone zapotrzebowanie na układy scalone (IC) nadal napędza mniejsze krytyczne wymiary. Procesy fotolitograficzne, w tym ekstremalne promieniowanie ultrafioletowe (EUV), wykazują coraz większą złożoność i objętość danych. Nasze rozwiązania litografii obliczeniowej umożliwiają opłacalne wykorzystanie technologii.
Calibre Computational Lithography Produkty
Zarówno wyzwania litograficzne, jak i złożoność obliczeniowa związana z zaawansowanymi węzłami procesowymi stwarzają potrzebę zaawansowanych możliwości oprogramowania i sprzętu do litografii obliczeniowej. Rozwiązanie Calibre oferuje najlepszą w swojej klasie dokładność, szybkość i koszt posiadania.
Produkt
all
Calibre nmOPC
Gęsta bliskość optyczna i korekcja procesu umożliwiająca głęboką produkcję submikronów.
Produkt
all
Calibre nmSRAF
Wstawia elementy wspomagające rozdzielczość (SRAF) do projektu.
Produkt
all
Calibre OPCverify
Potężna symulacja pełnochipowa i analiza litograficzna.
Produkt
all
Calibre WORKbench
GUI używany do uruchamiania szerokiej gamy aplikacji i przeglądania wyników.
Produkt
all
Kaliber NMModelFlow
Wysoce skalowalny silnik kalibracyjny do modeli optycznych, odpornych i trawionych.
Produkt
all
Calibre pxOPC
Szybka, odwrotna optyczna korekta zbliżeniowa oparta na pikselach.
Produkt
all
Calibre pxSMO and RET Selection
Łatwy w użyciu GUI do optymalizacji źródła oświetlenia.