Litografia EUV lub Extreme Ultraviolet to technologia, która wykorzystuje bardzo małą długość fali światła (13,5 nm) do drukowania obrazów na płytkach krzemowych. Jest to potrzebne, ponieważ mała długość fali EUV, która jest mniejsza niż rozmiar funkcji, znacznie ułatwia drukowanie i jest niezbędna do osiągnięcia rozdzielczości wzoru dla zaawansowanych węzłów technologii produkcyjnych, takich jak 5 nm, 3 nm i więcej.

Calibre modeluje wszystkie unikalne efekty optyczne EUV, takie jak flare, które obejmują zarówno efekty krótkiego, jak i dalekiego zasięgu. Calibre obsługuje dynamiczne generowanie modelu dla metody rozkładu domeny, aby umożliwić ciągłe modelowanie kąta azymutalnego, aberracji, apodyzacji i zmienności źródła w szczelinie bez utraty dokładności. Efekty maski 3D, takie jak efekt cieniowania spowodowany przez pochłaniacz grubej maski i oświetlenie poza osią, które zmienia się w całej szczelinie, można dokładnie skompensować. Calibre modeluje również efekt czarnej obramowania, aby wyeliminować jego wpływ obrazowania za pomocą OPC. Kaliber jest również przygotowany dla High NA EUV. Calibre jest wyposażony w nowe funkcje i funkcje wspierające optykę anamorficzną od modelowania po OPC.

SRAF są prawdopodobnie wymaganiem dla węzła 5 nm i poniżej w litografii EUV. SRAF mają pozytywny wpływ na nachylenie dziennika obrazu (ILS), zmniejszając tym samym chropowatość krawędzi linii (LER) i zwiększając głębię ostrości (DOF). Ze względu na oświetlenie poza osią EUV i zróżnicowane efekty cieniowania poprzez podział, asymetryczne SRAF mogą być potrzebne zarówno w kierunku poziomym, jak i pionowym, a różne SRAF mogą być wymagane w różnych miejscach szczelin.

Rozwiązanie SRAF firmy Calibre może wykorzystywać modele EUV do umieszczania SRAF. Calibre pxOPC może generować asymetryczne SRAF i można go dostosować do docelowych DOF, ILS lub kombinacji celów. Calibre nmSRAF może generować SRAF oparte na regułach przy użyciu wyników PxOPC jako szablonu i może umieszczać SRAF asymetrycznie. Calibre nmCLSRAF zapewnia elastyczność dla kształtów SRAF o swobodnym kształcie z silnika Inverse Lithography. Sekwencyjnie stosuje szablony, przeprowadza czyszczenie konfliktów MRC i może generować krzywoliniowe SRAF na maskach EUV.

High NA (Numerical Aperture) EUV to ewolucja litografii EUV (od dzisiejszego 0,33 NA do >= 0,5 NA), która jest wymagana do osiągnięcia rozdzielczości wzorca dla węzła zaawansowanej technologii. Kaliber jest już przygotowany dla High NA EUV. Produkty Calibre do modelowania i syntezy masek obsługują już optykę anamorficzną od modelowania przez OPC i MPC/MDP. Calibre EUV OPC z wieloma wzorami jest sprawdzony w produkcji, a Calibre Source Mask Optimization (SMO) zawiera również zaawansowane funkcje dla EUV o wysokiej zawartości na.

Calibre oferuje kompletny projekt poprzez przepływ produkcji dla zastosowań EUV. Rozwiązania EUV firmy Calibre rozwiązują wyzwania, zapewniając:

Pełne wsparcie modelowania dla EUV - Technologia modelowania Calibre w pełni obsługuje wszystkie efekty EUV, w tym efekt flare, efekt czarnej obramowania i efekty maski 3D.

Kompleksowy pakiet produktów - Wszystkie modelowane efekty są uwzględnione w produktach Calibre, takich jak Calibre PxSMO, Calibre pxOPC, Calibre nmOPC, Calibre nmSRAF i Calibre OPCverify OpcVerify, które są obecnie używane w tapeout.

Hierarchiczne przetwarzanie danych - Przepływ Calibre EUV jest skonstruowany zgodnie z główną hierarchią przy użyciu pełnych globalnych modeli EUV, umożliwiając szybki i dokładny przepływ OPC.

Przetwarzanie danych krzywoliniowych - Solutions do przygotowania danych Calibre Curvilinear można włączyć w całym przepływie taśmy maski EUV.

Wykorzystaj sztuczną inteligencję do dokładności następnego węzła - Calibre EUV zawiera zaawansowane techniki uczenia maszynowego w celu przyspieszenia syntezy masek, oferując znaczące ulepszenia w czasie wykonywania przy jednoczesnym zachowaniu jakości litografii.