Produkts
all
Calibre EUV
Visaptverošs atbalsts, risinot unikālas augstas NSS EUV problēmas, piemēram, anamorfisko optiku un masku 3D modelēšanu, lai ņemtu vērā ēnojuma efektus.
Calibre Computational Lithography
Neapmierinātais pieprasījums pēc integrālajām shēmām (IC) turpina palielināt mazākus kritiskos izmērus. Fotolitogrāfijas procesi, ieskaitot ārkārtēju ultravioleto starojumu (EUV), rada arvien sarežģītāku un datu apjomu. Mūsu skaitļošanas litogrāfijas risinājumi nodrošina rentablu tehnoloģiju iespējošanu.
Calibre Computational Lithography Produkti
Gan litogrāfiskās problēmas, gan skaitļošanas sarežģītība, kas saistīta ar uzlabotiem procesa mezgliem, rada nepieciešamību pēc uzlabotām iespējām skaitļošanas litogrāfijas programmatūrā un aparatūrā. Calibre risinājums piedāvā vislabāko savā klasē precizitāti, ātrumu un īpašumtiesību izmaksas.
Produkts
all
Calibre nmOPC
Blīvs optiskais tuvums un procesa korekcija, lai nodrošinātu dziļu submikronu ražošanu.
Produkts
all
Calibre nmSRAF
Dizainā ievieto apakšizšķirtspējas palīglīdzekļus (SRAF).
Produkts
all
Calibre OPCverify
Jaudīga pilnas mikroshēmas simulācija un litogrāfiskā analīze.
Produkts
all
Calibre WORKbench
GUI izmanto, lai palaistu visdažādākās lietojumprogrammas un skatītu rezultātus.
Produkts
all
NMModelFlow kalibrs
Augsti mērogojams kalibrēšanas dzinējs optiskajiem, rezistences un kodināšanas modeļiem.
Produkts
all
Calibre pxOPC
Ātra, apgriezta uz pikseļiem balstīta optiskā tuvuma korekcija.
Produkts
all
Calibre pxSMO and RET Selection
Viegli lietojams GUI apgaismojuma avota optimizēšanai.