Calibre EUV

EUV jeb Extreme Ultraviolet litogrāfija ir tehnoloģija, kas izmanto ļoti mazu gaismas viļņa garumu (13,5 nm), lai drukātu attēlus uz silīcija vafelēm. Tas ir nepieciešams, jo EUV mazais viļņa garums, kas ir mazāks par funkcijas izmēru, padara drukāšanu daudz vieglāku un ir būtisks, lai sasniegtu modeļa izšķirtspēju progresīviem ražošanas tehnoloģiju mezgliem, piemēram, 5 nm, 3 nm un tālāk.

Calibre modeļi ir visi unikālie EUV optiskie efekti, piemēram, uzliesmojums, kas ietver gan neliela, gan liela attāluma efektus. Calibre atbalsta dinamisko modeļu ģenerēšanu domēna sadalīšanās metodei, lai ļautu nepārtraukti modelēt azimutāla leņķi, aberācijas, apodizāciju un avota variācijas visā spraugā, nezaudējot precizitāti. 3D maskas efektus, piemēram, biezā maskas absorbētāja radīto ēnojuma efektu un ārpus ass apgaismojumu, kas mainās visā spraugā, var precīzi kompensēt. Calibre modelē arī melnās apmales efektu, lai novērstu tā attēlveidošanas ietekmi, izmantojot OPC. Kalibrs ir sagatavots arī High NA EUV. Calibre ir aprīkots ar jaunām funkcijām un funkcijām anamorfiskās optikas atbalstam no modelēšanas līdz OPC.

EUV litogrāfijā SRAF, iespējams, ir prasība 5 nm mezglam un zemākam mezglam. SRAF pozitīvi ietekmē attēla žurnāla slīpumu (ILS), tādējādi samazinot līnijas malu raupjumu (LER) un uzlabojot fokusa dziļumu (DOF). Sakarā ar EUV ārpus ass apgaismojumu un atšķirīgiem ēnošanas efektiem sadalīšanas rezultātā, asimetriski SRAF var būt nepieciešami gan horizontālā, gan vertikālā virzienā, un dažādās spraugas vietās var būt nepieciešami dažādi SRAF.

Calibre SRAF risinājums var izmantot EUV modeļus SRAF izvietošanai. Calibre pxOPC var ģenerēt asimetriskus SRAF, un tos var pielāgot mērķim DOF, ILS vai mērķu kombinācijai. Calibre nmSRAF var ģenerēt uz noteikumiem balstītus SRAF, izmantojot PxOPC rezultātus kā veidni, un var izvietot SRAF asimetriski. Calibre NMCLsRAF nodrošina elastību brīvas formas SRAF formām no inverses litogrāfijas dzinēja. Tas secīgi izmanto veidnes, veicot MRC konfliktu tīrīšanu un var ģenerēt izliektus SRAF uz EUV maskām.

Augsta NA (skaitliskā apertūra) EUV ir EUV litogrāfijas evolūcija (no mūsdienu 0,33 NA līdz>= 0,5 NA), kas nepieciešama, lai sasniegtu modeļa izšķirtspēju progresīvo tehnoloģiju mezglam. Calibre jau ir sagatavots High NA EUV. Calibre modelēšanas un masku sintēzes produkti jau atbalsta anamorfisko optiku no modelēšanas caur OPC un līdz MPC/MDP. Calibre EUV OPC ar vairāku rakstu ražošanu ir pārbaudīts, un Calibre Source Mask Optimization (SMO) ietver arī uzlabotas funkcijas EUV ar augstu NA līmeni.

Calibre piedāvā pilnīgu dizainu, izmantojot ražošanas plūsmu EUV lietojumiem. Calibre EUV risinājumi risina problēmas, nodrošinot:

Pilns modelēšanas atbalsts EUV - Calibre modelēšanas tehnoloģija pilnībā atbalsta visus EUV efektus, ieskaitot uzliesmojumu, melnās apmales efektu un 3D maskas efektus.

Visaptverošs produktu komplekts - Visi modelētie efekti tiek ņemti vērā Calibre produktos, piemēram, Calibre PxSMO, Calibre pxOPC, Calibre NmOPC, Calibre nmSRAF un Calibre OpcVerify, kurus mūsdienās izmanto lentē.

Hierarhiskā datu apstrāde - Calibre EUV plūsma ir veidota atbilstoši galvenajai hierarhijai, vienlaikus izmantojot pilnus globālos EUV modeļus, nodrošinot ātru un precīzu OPC plūsmu.

Izliekta datu apstrāde - Calibre Curvilinear datu sagatavošanas risinājumus var iespējot visā EUV maskas lentes plūsmā.

Izmantojiet AI nākamā mezgla precizitātei - Calibre EUV ietver uzlabotas mašīnmācīšanās metodes, lai paātrinātu masku sintēzi, piedāvājot ievērojamus izpildlaika uzlabojumus, vienlaikus saglabājot litogrāfijas kvalitāti.