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칼리버 EUV
섀도잉 효과를 고려한 아나모픽 광학이나 마스크 3D 모델링과 같은 고-NA EUV의 고유한 문제를 해결하는 포괄적인 지원이에요.
집적 회로 (IC) 에 대한 끝없는 수요로 인해 임계 치수가 계속 작아지고 있어요.극자외선 (EUV) 을 포함한 포토리소그래피 공정은 그 어느 때보다 복잡해지고 데이터 양이 많아져요.우리의 전산 리소그래피 솔루션은 비용 효율적인 기술 지원을 가능하게 해요.
리소그래피 문제와 고급 프로세스 노드와 관련된 계산 복잡성 때문에 전산 리소그래피 소프트웨어와 하드웨어에 고급 기능이 필요해요.칼리버 솔루션은 동급 최고의 정확도, 속도, 소유 비용을 제공해요.

고밀도 광학 근접성과 공정 보정으로 마이크론 미만의 딥 제조가 가능해요.
디자인에 하위 해상도 보조 기능 (SRAF) 을 삽입해요.
강력한 풀칩 시뮬레이션과 리소그래피 분석.

GUI는 다양한 애플리케이션을 실행하고 결과를 보는 데 사용했어요.

광학, 레지스트, 에칭 모델을 위한 확장성이 뛰어난 캘리브레이션 엔진이에요.
빠른 역 픽셀 기반 광학 근접 보정.