EUV 풀칩 커비리니어 마스크를 생성하면 공정 윈도우를 극대화할 수 있지만 마스크를 생산하는 데 사용되는 기술은 풀칩 로직 제조를 하기에는 너무 느리거든요.저희는 매우 유사한 리소그래피 측정법으로 4배에서 100배 이상 빠른 런타임을 제공하는 역 리소그래피 기술 (ILT) 만 사용하는 몇 가지 대안을 검토해요.
Calibre EUV OPC 모델링과 멀티 패터닝은 아나모픽 광학 (소스 최적화, 모델링, 확대, MRC, 필드 스티칭용) 과 고 NA EUV의 섀도잉 효과를 설명하는 마스크 3D 모델링 같은 고 NA EUV의 고유한 문제를 해결하는 포괄적인 지원을 제공해요.
칼리버는 ILT 및 곡선형 마스크 솔루션을 포함하는 풀칩 EUV 마스크 생성을 위한 다양한 접근 방식을 제공해요. 특히 중요한 런타임 문제를 해결하면서 높은 리소그래피 품질을 달성하는 데 초점을 맞추고 있어요.
Calibre EUV 프로세스 모델링은 다음 노드 정확도를 위해 인공지능을 활용해요. 기능 기반의 지도형 기계 학습 모델을 활용하여 빠른 TAT로 경쟁력 있는 모델 정확도를 제공하는 기계 학습 프레임워크예요.
칼리버는 고급 메모리 장치 제조를 위한 슬릿/플레어 어웨어 메모리 EUV OPC 흐름을 제공해요.Calibre RET MEMOPC와 통합하면 플로우가 빠른 런타임과 어레이 전체의 완벽한 보정 일관성을 보장해요.
