Calibre nmCLSRAF は、曲線設計に対してILTガイド付きのテンプレートベースのSRAF合成を行い、正確なリソグラフィ制御、サブレゾリューションアシスト機能（SRAF）配置の一貫性、マスク製造（MRC）への準拠、集積回路（IC）製造の迅速な実行を保証します。
過去10年間で、フォトニクステクノロジーはマイクロエレクトロニクスにおける光通信と光インターコネクトの新しい技術でした。その結果、多種多様なフォトニクス設計方法論が、非常に難しいスケールや形状と融合しました。このような曲線的で重要なフォトニクス形状を製造するには、193 nmの液浸リソグラフィによる逆リソグラフィ技術（ILT）を含む高度な解像度向上技術（RET）が必要です。この論文では、高度なILTソリューションを使用するいくつかのフォトニクスデバイスの製造上の課題と、エッジ配置誤差（EPE）、PVバンド、ラインエッジ粗さ（LER）など、SRAF挿入が良好なリソ品質の実現に与える影響を調査します。Calibre ILTソリューションが最も困難なフォトニクス設計の製造をどのように可能にするかを実演します。
テンプレートベースのアプローチでは、ネイティブのILT SRAF合成よりも高速で、ランタイム効率を大幅に向上させながら、プロセスウィンドウ変動（PVバンド）、共通焦点深度（DOF）、画像対数スロープ（ILS）の点でILT SRAFと同等のリソグラフィ品質が得られます。
Calibre nmCLSRAF は、Calibre ILTエンジンの結果を組み込んで、SRAF合成のDUVおよびEUVリソグラフィプロセス固有の基準の両方を満たす実行可能な曲線SRAFソリューションを提供します。
カスタムフローは、特にシリコンフォトニクスアプリケーション向けのSRAFカバレッジやギャップ抑制の要件など、特殊設計における曲線SRAF挿入の追加要件を満たすように開発できます。
Calibre nmCLSRAF は、Calibre ILTエンジンから生成されたインバースリソグラフィー（ILT）の結果に基づいた、ルールベースの高速曲線SRAF挿入ソリューションです。
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Calibreツールスイートは、リソースの使用量とテープアウトスケジュールを最小限に抑えながら、すべてのプロセスノードと設計スタイルにわたって正確で効率的かつ包括的なIC検証と最適化を実現します。