Calibre Computational Lithography

集積回路（IC）に対する飽くなき需要により、重要な寸法は引き続き小型化されています。極端紫外線（EUV）を含むフォトリソグラフィプロセスは、これまで以上に複雑になり、データ量も増えています。当社の計算リソグラフィソリューションは、費用対効果の高い技術実現を可能にします。

Calibre Computational Lithography 製品

リソグラフィの課題と高度なプロセスノードに伴う計算の複雑さの両方から、計算リソグラフィのソフトウェアとハードウェアの高度な機能が必要になります。Calibreソリューションは、クラス最高の精度、速度、および所有コストを提供します。

アナモルフィック光学系やシャドーイング効果を考慮したマスク3Dモデリングなど、高NAEUV特有の課題に対処する包括的なサポート。

製品

高密度の光学近接とプロセス補正により、ディープサブミクロンの製造が可能になります。

製品

サブレゾリューションアシスト機能（SRAF）を設計に挿入します。

製品

強力なフルチップシミュレーションとリソグラフィ解析。

製品

GUIは、さまざまなアプリケーションを起動し、結果を表示するために使用されます。

製品

光学モデル、レジストモデル、エッチングモデル用の拡張性の高いキャリブレーションエンジン。

製品

高速、逆ピクセルベースの光学近接補正。

製品

照明源を最適化するための使いやすいGUIです。