Prodotto
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Calibre EUV
Supporto completo per affrontare le sfide uniche dell'EUV ad alto NA, come l'ottica anamorfica e la modellazione 3D delle maschere per tenere conto degli effetti di ombreggiatura.
Calibre Computational Lithography
L'insaziabile domanda di circuiti integrati (CI) continua a portare a dimensioni critiche sempre più piccole. I processi di fotolitografia, compresi gli ultravioletti estremi (EUV), presentano una complessità e un volume di dati sempre maggiori. Le nostre soluzioni di litografia computazionale consentono l'abilitazione tecnologica a costi contenuti.
Prodotti Calibre Computational Lithography
Sia le sfide litografiche che la complessità computazionale associata ai nodi di processo avanzati creano la necessità di funzionalità avanzate nel software e nell'hardware della litografia computazionale. La soluzione Calibre offre precisione, velocità e costi di proprietà ai vertici della categoria.
Prodotto
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Calibre nMOPC
Prossimità ottica densa e correzione del processo per consentire una produzione submicronica profonda.
Prodotto
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Calibre NMSraf
Inserisce funzioni di assistenza alla sub-risoluzione (SRAF) in un progetto.
Prodotto
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Calibre OPCVerify
Potente simulazione a chip completo e analisi litografica.
Prodotto
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Calibre WorkBench
GUI utilizzata per avviare un'ampia varietà di applicazioni e visualizzare i risultati.
Prodotto
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Calibro NMModelFlow
Motore di calibrazione altamente scalabile per modelli ottici, resist ed etch.
Prodotto
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Calibre pxOPC
Correzione ottica della prossimità rapida e inversa basata su pixel.
Prodotto
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Calibre PxSMO e RET Selection
Interfaccia grafica facile da usare per l'ottimizzazione della fonte di illuminazione.