La litografia EUV, o Extreme Ultraviolet, è una tecnologia che utilizza una lunghezza d'onda della luce molto piccola (13,5 nm) per stampare immagini su wafer di silicio. È necessario perché la piccola lunghezza d'onda di EUV, essendo inferiore alle dimensioni della caratteristica, rende la stampa molto più semplice ed è essenziale per ottenere la risoluzione dei pattern per nodi tecnologici di produzione avanzati come 5 nm, 3 nm e oltre.

Calibre modella tutti gli effetti ottici EUV unici come il flare, che include effetti sia a corto che a lungo raggio. Calibre supporta la generazione dinamica di modelli per il metodo di decomposizione del dominio per consentire la modellazione continua dell'angolo azimutale, delle aberrazioni, dell'apodizzazione e della variazione della sorgente attraverso la fenditura senza perdita di precisione. Gli effetti della maschera 3D come l'effetto di ombreggiatura causato dallo spesso assorbitore della maschera e l'illuminazione fuori asse, che varia lungo la fenditura, possono essere compensati con precisione. Calibre modella anche l'effetto bordo nero per eliminare l'impatto sulle immagini tramite OPC. Calibre è predisposto anche per High NA EUV. Calibre è dotato di nuove caratteristiche e funzionalità per supportare l'ottica anamorfica dalla modellazione tramite OPC.

Gli SRAF sono probabilmente un requisito per il nodo a 5 nm e meno nella litografia EUV. Gli SRAF hanno un impatto positivo su Image Log Slope (ILS), riducendo così la rugosità del bordo lineare (LER) e migliorando la profondità di messa a fuoco (DOF). A causa dell'illuminazione fuori asse dell'EUV e dei diversi effetti di ombreggiatura dovuti alla divisione, potrebbero essere necessari SRAF asimmetrici sia in direzione orizzontale che verticale e potrebbero essere necessari SRAF diversi in diverse posizioni delle fessure.

La soluzione SRAF di Calibre può utilizzare modelli EUV per il posizionamento SRAF. Calibre pxOPC può generare SRAF asimmetrici e può essere regolato in base a DOF, ILS o una combinazione di obiettivi. Calibre NMSRAF può generare SRAF basati su regole utilizzando i risultati pxOPC come modello e può posizionare gli SRAF in modo asimmetrico. Il calibro nmclSRAF offre flessibilità per le forme SRAF a forma libera del motore Inverse Lithography. Applica modelli in sequenza, esegue la pulizia per i conflitti MRC e può generare SRAF curvilinei sulle maschere EUV.

High NA (apertura numerica) EUV è un'evoluzione della litografia EUV (dagli odierni 0,33 NA a >= 0,5 NA) necessaria per ottenere la risoluzione dei pattern per il nodo tecnologico avanzato. Calibre è già pronto per High NA EUV. I prodotti di modellazione e sintesi di maschere di Calibre supportano già l'ottica anamorfica dalla modellazione tramite OPC e MPC/MDP. Calibre EUV OPC con pattern multiplo è collaudato nella produzione e Calibre Source Mask Optimization (SMO) include anche funzionalità avanzate per EUV ad alto NA.

Calibre offre una progettazione completa attraverso il flusso di produzione per le applicazioni EUV. Le soluzioni EUV di Calibre affrontano le sfide fornendo:

Supporto completo alla modellazione per EUV - La tecnologia di modellazione di Calibre supporta pienamente tutti gli effetti EUV, inclusi flare, effetto bordo nero ed effetti maschera 3D.

Suite di prodotti completa - Tutti gli effetti modellati sono presi in considerazione in prodotti Calibre come Calibre PxSMO, Calibre pxOPC, Calibre nmoPC, Calibre nmsRAF e Calibre OPCVerify, che vengono utilizzati oggi in tapeout.

Elaborazione gerarchica dei dati - Il flusso Calibre EUV è progettato secondo la gerarchia principale utilizzando modelli EUV globali completi, che consentono un flusso OPC rapido e preciso.

Elaborazione curvilinea dei dati - Le soluzioni Calibre Curvilinear Data Preparation Solutions possono essere abilitate per l'intero flusso di nastratura delle maschere EUV.

Sfrutta l'intelligenza artificiale per la precisione del nodo successivo - Calibre EUV include tecniche avanzate di apprendimento automatico per accelerare la sintesi delle maschere, offrendo significativi miglioramenti della durata pur mantenendo la qualità della litografia.