Termék
all
Calibre EUV
Átfogó támogatás a magas NS-es EUV egyedi kihívásainak, például az anamorf optika és a maszk 3D modellezés kezelésére az árnyékoló hatások figyelembevétele érdekében.
Calibre Computational Lithography
Az integrált áramkörök (IC-k) iránti kielégíthetetlen igény továbbra is kisebb kritikus méreteket hajt végre. A fotolitográfiai folyamatok, beleértve az extrém ultraibolya (EUV), egyre bonyolultabb és adatmennyiséget mutatnak. Számítási litográfiai megoldásaink költséghatékony technológiák lehetővé teszik.
Calibre Computational Lithography Termékek
Mind a litográfiai kihívások, mind a fejlett folyamatcsomópontokhoz kapcsolódó számítási komplexitás szükségessé teszi a számítási litográfiai szoftver és hardver fejlett képességeit. A Calibre megoldás osztályának legjobb pontosságát, sebességét és tulajdonosi költségeit kínálja.
Termék
all
Calibre nmOPC
Sűrű optikai közelség és folyamatkorrekció a mély szubmikron gyártás lehetővé tétele érdekében.
Termék
all
Calibre nmSRAF
Beilleszti az alfelbontású segédfunkciókat (SRAF) a tervbe.
Termék
all
Calibre OPCverify
Erőteljes chipes szimuláció és litográfiai elemzés.
Termék
all
Calibre WORKbench
A
felhasználói felület sokféle alkalmazás elindítására és az eredmények megtekintésére szolgál.
Termék
all
NMModelFlow kaliber
Magasan skálázható kalibrációs motor optikai, ellenálló és marató modellekhez.
Termék
all
Calibre pxOPC
Gyors, inverz pixel alapú optikai közelségkorrekció.
Termék
all
Calibre pxSMO and RET Selection
Könnyen használható GUI a megvilágítási forrás optimalizálásához.