Az EUV vagy Extreme Ultraviolet litográfia olyan technológia, amely nagyon kis fényhullámhosszt (13,5 nm) használ a képek szilícium ostyákra történő nyomtatására. Erre azért van szükség, mert az EUV kis hullámhossza, mivel kisebb, mint a jellemző mérete, sokkal könnyebbé teszi a nyomtatást, és elengedhetetlen a fejlett gyártási technológiai csomópontok mintázatfelbontásának eléréséhez, mint például az 5 nm, 3 nm és azon túl.

A Caliber modellek mindegyike egyedi EUV optikai effektusokat, például a fellángolást, amely magában foglalja mind a rövid, mind a nagy hatótávolságú hatásokat. A Calibre támogatja a tartománybomlási módszer dinamikus modellezését, így lehetővé teszi az azimutális szög, az aberrációk, az apodizáció és a forrásváltozások folyamatos modellezését a pontosság elvesztése nélkül. A 3D-s maszk effektusok, például a vastag maszk elnyelő árnyékolási hatás és a résen eltérő tengelyen kívüli megvilágítás pontosan kompenzálhatók. A Calibre a fekete szegély hatást is modellezi, hogy az OPC-n keresztül kiküszöbölje a képalkotó hatást. A Calibre a High NA EUV számára is készül. A Calibre új funkciókkal és funkciókkal van felszerelve az anamorf optika támogatására a modellezéstől az OPC-n keresztül.

Az SRAF-ek valószínűleg követelményeket jelentenek az 5 nm-es és annál alacsonyabb csomópontra az EUV litográfiában. Az SRAF-ek pozitív hatással vannak a képnapló lejtésére (ILS), ezáltal csökkentik a vonalél érdességét (LER) és növelve a fókuszmélységet (DOF). Az EUV tengelyen kívüli megvilágítása és az osztás révén változó árnyékolási hatások miatt aszimmetrikus SRAF-ekre lehet szükség vízszintes és függőleges irányban egyaránt, és különböző rési helyeken eltérő SRAF-ekre lehet szükség.

A Calibre SRAF megoldása EUV modelleket használhat az SRAF elhelyezéséhez. A Calibre pxOPC aszimmetrikus SRAF-eket generálhat, és a DOF, ILS vagy célok keverékéhez igazítható. A Calibre nmSRAF szabályalapú SRAF-eket képes létrehozni sablonként a PxOPC eredmények felhasználásával, és aszimmetrikusan helyezheti el az SRAF-eket. A Calibre NMCLsRAF rugalmasságot biztosít az inverz litográfiai motor szabad formájú SRAF alakjaihoz. Szekvenciálisan alkalmazza a sablonokat, tisztítja az MRC-konfliktusokat, és görbe vonalú SRAF-eket hozhat létre az EUV maszkokon.

A magas NA (numerikus apertúra) EUV az EUV litográfia evolúciója (a mai 0,33 NA-tól >= 0,5 NA-ig), amely a fejlett technológiás csomópont mintafelbontásának eléréséhez szükséges. A Calibre már készül a High NA EUV számára. A Calibre modellező és maszkszintézis termékei már támogatják az anamorf optikát a modellezéstől az OPC-n át az MPC/MDP-ig. A többmintázatú Calibre EUV OPC gyártás bevált, és a Calibre Source Mask Optimization (SMO) fejlett funkciókat is tartalmaz a magas NS-es EUV számára.

A Calibre teljes kivitelezést kínál az EUV alkalmazásokhoz. A Calibre EUV megoldásai a következők biztosításával foglalkoznak a kihívásokra:

Teljes modellezési támogatás az EUV számára - A Calibre modellezési technológiája teljes mértékben támogatja az összes EUV effektet, beleértve a fellángolást, a fekete szegélyhatást és a 3D maszk effektusokat.

Átfogó termékcsalád - Az összes modellezett effektus olyan Calibre termékekben szerepel, mint a Calibre PxSMO, a Calibre pxOPC, a Calibre nmOPC, a Calibre nmSRAF és a Calibre OPCverify OpcVerify, amelyeket ma a tapeout alkalmazásban használnak.

Hierarchikus adatfeldolgozás - A Calibre EUV áramlást a fő hierarchiára építik, miközben teljes globális EUV modelleket alkalmaznak, lehetővé téve a gyors és pontos OPC áramlást.

Görbe vonalas adatfeldolgozás - A Calibre Curvilinear Data Preparation Solutions engedélyezhető a teljes EUV maszk szalagkiáramlásán keresztül.

Használja ki az AI a következő csomópont pontosságához - A Calibre EUV fejlett gépi tanulási technikákat tartalmaz a maszkszintézis felgyorsítására, jelentős futásidejű fejlesztéseket kínál a litográfia minőségének fenntartása mellett.