
Együttműködés a TSMC-vel az AI előmozdítása érdekében
A Siemens ma bejelentette, hogy folytatja az együttműködést a TSMC-vel az AI-alapú automatizálás és a fejlett félvezető tervezés lehetővé tétele érdekében az innováció ösztönzése érdekében.
%20semiconductor-foundry-support-digital-twin-key-visual-shero-2560x1440.jpg?auto=format%2Ccompress&w=2560&h=1440&fit=crop&crop=faces%2Cedges&q=60)
A tervező cégek és öntödék napi működésében bizonyított Siemens EDA együttműködéssel, innovációval és öntödéspecifikus folyamatokkal támogatja a legendás és öntödei ökoszisztémákat, amelyeket építettek, teszteltek és tanúsítottak.
A Siemens EDA eszközöket világszerte a félvezető öntödékben bizonyították. A nagyobb öntödékkel való együttműködés biztosítja a legkorábbi hozzáférést a fejlett gyártási folyamatokhoz szükséges eszközökhöz, valamint a folyamatos sikerhez szükséges funkcionalitást és teljesítményt a kialakított folyamatcsomópontokon.
A GlobalFoundries Inc. (GF) a világ egyik vezető félvezetőgyártója, amely egyedülálló tervezési, fejlesztési és gyártási szolgáltatásokat kínál mind az élvonalbeli, mind a mainstream technológiák számára. A GlobalFoundries újradefiniálja az innovációt és a félvezetőgyártást azáltal, hogy olyan funkciókban gazdag folyamattechnológiai megoldásokat fejleszt és szállít, amelyek vezető teljesítményt nyújtanak az átfogó, magas növekedésű piacokon. A GlobalFoundries és a Siemens EDA gyakran együttműködnek számos projektben, hogy növeljék a tervezési, ellenőrzési és gyártási folyamatok termelékenységét és eredményeit kölcsönös ügyfeleik számára.
Siemens EDA IC portfólió | Fizikai ellenőrzés | Dupla/többmintás | Mintaegyeztetés (DRC +) | LVS | Parazita extrakció | PERC | Teljesítményintegritás és EM¹ | LFD | Töltés² | DFM pontozás | CAA | Custom Design | Hely és útvonal | Áramkör szimuláció |
12 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | |
14 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● | ✔ | |
22 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | REQ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ |
28 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● | ✔ | ||
40 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● | |||
45nm³ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● | ||||||
65/55 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● | ✔ | |
90 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● | ✔ | ||||||
0,13um | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● | ✔ | ||||||
0,18um | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● | ✔ | ||||||||
> = 0,35um | ✔ | ✔ | ✔ | ● |
✔: tanúsított; REQ: csak szolgáltatási kérelem alapján
[1]: Az mPower Digital minden technológiai csomópontra tanúsított. Az Analogot hivatalosan nem támogatja a GF, de az mPower termékcsapata kérésre támogathatja az ügyfeleket.
[2]: A Calibre SmartFill POR (Plan of Record) 20 nm alatt, a Dummy Fill pedig 20 nm felett.
[3]: A 45 nm-es folyamatcsomópont kifejezetten támogatja az RF SOI CMOS technológiát.
[4]: Az 55nm rendelkezik DRC+készlettel, de a 65nm nem.
[5]: Kaliber PERC fedél csak 55LP PDK-hoz érhető el, de más 65/55 nm-es PDK-khoz nem.
●: A műszaki fájlokat a Siemens biztosítja azokhoz a folyamatcsomópontokhoz, amelyek nem tanúsítottak. Kéréseivel kapcsolatban forduljon az Aprisa termékcsapatához.
Az Intel Foundry gyártási szolgáltatások széles skáláját kínálja egyedi termékszükségleteinek kielégítésére, a maszkgyártástól az ostyagyártáson át az iparágvezető válogatási és tesztelési képességekig. Az Intel fejlett csomagolási technikái lehetővé teszik a különböző számítástechnikai motorok integrálását több folyamattechnológia között, amelyek teljesítményparaméterei hasonlóak az egyetlen szerszámhoz, de a platform hatókörével, amely messze meghaladja az egyszeri integráció szabványméret-határát. A kutatás és fejlesztés (K+F) és a gyártás terén globális vezetőként az Intel folyamatosan iparágvezető platformmegoldások optimalizálására és szállítására törekszik ügyfeleinkkel minden meglévő és fejlődő piaci szegmens számára.
Az Intel Foundry Accelerator - EDA Alliance elkötelezett amellett, hogy ökoszisztémát hozzon létre az Intel Foundry élvonalbeli technológiai technológiákon alapuló következő generációs rendszer-on-chip (SoC) tervezéséhez és gyártásához. A kezdeményezés elősegíti az Intel Foundry és ökoszisztéma-partnerek közötti együttműködést, különös tekintettel a kockázatok csökkentésére és a tervezési akadályok leküzdésére, miközben felgyorsítja a kölcsönös vásárlói termékek piacra jutásának időpontját. A szövetség részeként a Siemens EDA szorosan együttműködik az Intel Foundry céggel, hogy optimalizálja osztályának legjobb IC-tervező eszközeit, folyamatait és módszertanait az Intel világszínvonalú folyamataihoz.
Intel öntödei gyorsító - EDA Alliance
Siemens EDA | Prototipizálás/tervezés | Fizikai ellenőrzés | Dupla/többmintás | Mintaegyeztetés | LVS | Parazita extrakció | Termikus elemzés | PERC | Intelligens kitöltés | Áramkör szimuláció |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
14 Angstrom osztály (14A) | ✔ | Készítette: Foundry | ✔ | CCI NAK NEK StarRC | ✔ | ✔ | ✔ | |||
18 Angstrom osztály (18A) | ✔ | Készítette: Foundry | ✔ | CCI NAK NEK StarRC* | ✔ | ✔ | ✔ | |||
7 nm (Intel3) | ✔ | Készítette: Foundry | ✔ | ✔ | CCI NAK NEK StarRC | ✔ | ✔ | |||
16 nm (Intel16) | ✔ | ✔ | CCI NAK NEK StarRC | ✔ | ✔ | ✔ | ||||
EMB | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ||||
EMIB-T | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ |
✔: tanúsított (2026. júliusától)
[*]: Az xACT engedélyezve volt az Intel Foundry 18A folyamatcsomóponton a Parazita-extrakcióhoz, de külső ügyfelek számára nem bocsátották ki.
A beágyazott többszörös összekötő híd (EMIB) egy kis szilíciumdarab, amely egy szerves csomagolású szubsztrátumüregbe van ágyazva. Nagy sebességű, nagy sávszélességű matrics-matrics-interfész útvonalat biztosít. A Siemens tanúsított tervezési folyamatot biztosít a DIE/csomagok társtervezése, a funkcionális ellenőrzés, a fizikai elrendezés, a termikus, a SI/PI/EMIR elemzés és az összeszerelési ellenőrzés területén.
A Samsung Foundry versenyképes folyamatokat, tervezési technológiákat, IP-címet és nagy volumenű gyártási képességeket kínál az ügyfelek számára a fejlett folyamattechnológiák teljes skálájával, beleértve a 3D/2.5D integrált csomagmegoldásokat, valamint a rugalmas és hatékony felhőalapú tervezési környezeteket. Partnerként a Samsung Advanced Foundry Ecosystem A (SAFE™) program, a Siemens EDA közös projektekben vesz részt a Samsung Foundry céggel annak érdekében, hogy a kölcsönös ügyfeleik által támaszkodó fejlett platformok és technológiák egyre kifinomultabbá tegyék életre.
Siemens EDA IC portfólió | Fizikai ellenőrzés | Dupla/többmintás | Mintaegyeztetés (hozamellentők) | LVS | Parazita extrakció | PERC | Teljesítményintegritás és EM¹ | LFD | Töltés² | DFM pontozás | Hely és útvonal | Áramkör szimuláció |
2 nm (SF2*) | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ||
3 nm (SF3*) | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ||
4 nm (SF4*) | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | |
5 nm (SF5*) | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ |
7 nm (SF7*) | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● | ✔ | |
11 nm/8 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ |
14 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ |
28FDS | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ||
28 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | |||
90 nm/70 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● | |||||||
0,18um/0,13um | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● |
✔: tanúsított (2026. júliusától)
[1]: Az mPower Analog 4LPP, 14LPU, LL1318GPF tanúsítvánnyal rendelkezik, az mPower Digital pedig 5LPE tanúsítvánnyal rendelkezik.
[2]: A Calibre SmartFill POR (Plan of Record) 20 nm alatt, a Dummy Fill pedig 20 nm felett.
●: A műszaki fájlokat a Siemens biztosítja azokhoz a folyamatcsomópontokhoz, amelyek még nem tanúsítottak. Kéréseivel forduljon az Aprisa termékcsapatához.
A Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC) úttörő szerepet játszott a tiszta színű öntödei üzleti modellben. Mivel úgy döntött, hogy nem tervez, gyárt vagy forgalmaz félvezető termékeket saját neve alatt, a TSMC sikerének kulcsa mindig is az volt, hogy ügyfelei sikerére összpontosítson. A TSMC-gyártású félvezetők globális ügyfélkört szolgálnak ki, amely nagy és változatos, széles körű alkalmazásokat alkalmaznak a különféle végpiacokon, beleértve az okostelefonokat, a nagy teljesítményű számítástechnikát, a tárgyak internetét (IoT), az autóiparat és a digitális fogyasztói elektronikát.
A TSMC EDA Alliance csökkenti a TSMC folyamattechnológiák vásárlói alkalmazásának tervezési akadályait. Az EDA Alliance partnerként a Siemens EDA szorosan együttműködik a TSMC tervezési technológiai csapataival, hogy kielégítse a kölcsönös ügyfél-tervezési igényeit azáltal, hogy lehetővé teszi az új EDA eszközfunkciókat, amelyek összhangban vannak a TSMC fejlett folyamatfejlesztési ütemtervéhez, valamint a TSMC tervezési módszertanának megvalósításával a referenciafolyamatokban. Ezen együttműködés révén a TSMC és a Siemens EDA lehetővé teszi a kölcsönös ügyfelek számára, hogy rövidebb idő alatt jobban elérjék PPA céljaikat.
Siemens EDA IC portfólió | Prototipizálás/tervezés | Fizikai ellenőrzés | Dupla/többmintás | Mintaegyeztetés | LVS | Parazita extrakció | PERC | Teljesítményintegritás és EM | Töltés¹ | Custom Design | Hely és útvonal | Áramkör szimuláció |
14 Angstrom osztály (A14) | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | TÖRÖLJE | ✔ | TÖRÖLJE | ✔ | ||
16 Angstrom osztály (A16) | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ||||
2nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ ² | ✔ | ✔ [3] | ✔ | ||
3 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ ² | ✔ | ✔ | ✔ | ||
4 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ||
5 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ||
7 nm/6 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | TÖRÖLJE | ✔ | ✔ | |
16 nm/12 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | |||
28 nm/22 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ||||
45 nm/40 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | |||||
65 nm/55 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● | ✔ | |||||
90 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● | ✔ | ||||||
0,13um/ 0,11um | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● | ✔ | ||||||
> = 0,18um | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● | ✔ | ||||||
Információ_OS | ✔ | ✔ | ||||||||||
Info_pop | ✔ | ✔ |
✔: tanúsított; WIP: folyamatban lévő munka (2026. júliusától)
[1]: A Calibre SmartFill POR (Plan of Record) 20 nm alatt, a Dummy Fill pedig 20 nm felett.
[2]: Az mPower Analog teljes mértékben tanúsított, míg az mPower Digital tanúsítás folyamatban van a legújabb folyamatszármazékos változatnál.
[3]: A legújabb folyamatszármazékos változat Aprisa 2nm-es támogatása ma már korai hozzáférésű. Jelenleg a Tier-1 ügyfelekkel dolgozik az N2 gyártási szalagokon.
●: A műszaki fájlokat a Siemens biztosítja azokhoz a folyamatcsomópontokhoz, amelyek még nem tanúsítottak. Kéréseivel forduljon az Aprisa termékcsapatához.
A TSMC-vel folytatott folyamatos együttműködésünk sikeresen automatizált munkafolyamat-tanúsítványt eredményezte az Info-integrációs technológiájukhoz, amely része a 3DFabric platform. A kölcsönös ügyfelek számára ez a tanúsítás lehetővé teszi innovatív és erősen differenciált végtermékek fejlesztését a kategóriájában a legjobb EDA szoftver és az iparág vezető fejlett csomagolási integrációs technológiáinak felhasználásával.
Automatizált Info_OS és Info_POP tervezési munkafolyamataink most a TSMC tanúsítja. Ezek a munkafolyamatok közé tartozik Innovator3D IC, HyperLynx DRC, és Calibre nmDRC technológiák.
A TSMC meghatározása szerint az InFO egy innovatív ostyaszintű rendszerintegrációs technológiai platform, amely nagy sűrűségű RDL (Re-Distribution Layer) és TIV (Through InFO Via) rendelkezik a nagy sűrűségű összekapcsoláshoz és teljesítményhez különféle alkalmazásokhoz, például mobil, nagy teljesítményű számítástechnikához stb. Az InFO platform különféle csomagsémákat kínál 2D és 3D formátumban, amelyek speciális alkalmazásokhoz vannak optimalizálva.
Az Info_OS kihasználja az InFO technológiát, és nagyobb sűrűségű 2/2µm RDL vonalszélesség/térrel rendelkezik, hogy több fejlett logikai chipletet integráljon az 5G hálózati alkalmazáshoz. Lehetővé teszi a hibrid párnák kiosztását SoC-n, legalább 40 µm I/O hangmagassággal, minimális 130 µm C4 Cu dudorhangmagassággal és > 2X retikulaméretű Info-val >65 x 65 mm-es szubsztrátumokon.
Az Info_POP, az iparág első 3D ostyaszintű ventilátor-out csomagja, nagy sűrűségű RDL-t és TIV-t tartalmaz, amelyek integrálják a mobil AP-t és a DRAM csomag halmozását mobil alkalmazásokhoz. Az FC_POP-hoz képest az Info_pop vékonyabb profillal rendelkezik, és jobb elektromos és termikus teljesítményű, mivel nincs szerves szubsztrát és C4 dudor.
Integrálja a logikát és a memóriát a 3D célzásba, az AI és a HPC-be. Az Innovator3D IC létrehozza, optimalizálja és kezeli a teljes CowOS eszközösszeállítás 3D-modelljét.
Az Innovator3D IC létrehozza, optimalizálja és kezeli egy 3D digitális ikermodellt, amely elősegíti a részletes tervezést és ellenőrzést.
Az Innovator3D IC optimalizálja és kezeli a 3D digitális ikermodellt, amely a Calibre technológiákkal hajtja végre a tervezést, majd a hitelesítést.
A Tower Semiconductor fejlett analóg technológiákat és gyártási megoldásokat kínál a világ legizgalmasabb és legnövekvő arénáinak élvonalában, többek között az autóipari, fogyasztói, orvosi, ipari, repülőgépi és védelmi területeken. A Tower Semiconductor egyedi analóg megoldásokra specializálódott differenciált termékek gyártásához, élvonalbeli folyamattechnológiákat kínál, beleértve a rádiófrekvenciát (RF), a nagy teljesítményű analóg (HPA), az integrált energiagazdálkodást, a CMOS képérzékelőket (CIS), a nem képalkotó érzékelőket (NIS) és a vegyes jelű CMOS, valamint mikroelektromechanikus rendszereket (MEMS). Fejlett technológiai platformjainak kiegészítésére a Társaság tervezési szolgáltatásokat is kínál, érett és értékes eszközöket biztosítva, amelyek lehetővé teszik a gyors és pontos tervezési ciklust.
Siemens EDA IC portfólió | Fizikai ellenőrzés | LVS | Parazita extrakció | PERC | Teljesítményintegritás és EM¹ | Custom Design | Áramkör szimuláció |
45 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | REQ | ||
65 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | REQ | ✔ | |
0,13um | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | REQ | ✔ | ✔ |
0,18um | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | REQ | ✔ | ✔ |
> = 0,25um | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | REQ | ✔ | ✔ |
✔: tanúsított; REQ: ügyfél kérésére
[1]: Az mPower minden csomópont számára támogatott az ügyfél kérése alapján.
A United Microelectronics Corporation (UMC) kiváló minőségű hibrid kötéseket vagy szerszámokat és ostyákat biztosít a 3D IC integrációhoz.
Kiváló minőségű IC-gyártási szolgáltatások és különféle speciális technológiák biztosítása az elektronikai ipar minden fő ágazatának kiszolgálására.
Öntödei tervezőkészletet biztosít 3D IC szerelési ellenőrzéshez és parazita-extrakcióhoz az Innovator3D IC Integrator és a Calibre technológiák alkalmazásával. További részletekért olvassa el a sajtóközleményt.
Siemens EDA IC portfólió | Fizikai ellenőrzés | Dupla/többmintás | LVS | Parazita extrakció | PERC | Teljesítményintegritás és EM | LFD | Töltés¹ | CAA | Custom Design | Áramkör szimuláció |
12 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ||||||
14 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | TÖRÖLJE | ✔ | ✔ | ||||
17 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | TÖRÖLJE | TÖRÖLJE | ✔ | ||||
22 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ||||
28 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ||
40 nm | ✔ | ✔ | ✔ | REQ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | |
65 nm/55 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | |||||
90 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | |||||||
0,13um/ 0,11um | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | |||||
0,18um | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ |
✔: tanúsított; WIP: folyamatban lévő munka; REQ: csak szolgáltatási kérelem alapján
[1]: A Calibre SmartFill POR (Plan of Record) 20 nm alatt, a Dummy Fill pedig 20 nm felett.



