Les machines d'écriture de masques multifaisceaux (MBMW) permettent d'utiliser des formes curvilignes idéales pour les masques de lithographie inverse (ILT), mais les formats de mise en page actuels ne sont pas suffisants pour représenter efficacement des modèles ILT complexes, de la correction de proximité optique (OPC) à la création de masques. En 2019, nous avons créé un groupe de travail sur les formats de données afin de répondre au besoin d'une représentation curvilinéaire des données pour les MBMW. Le groupe de travail sur le format de données curvilinéaire est composé de membres issus de sociétés EDA et de fabricants de masques avancés. Dans cet article, la nécessité d'un nouveau format de données curvilinéaire et les objectifs de notre groupe de travail seront abordés. Nous discuterons des progrès et du plan du groupe de travail. Une version de cet article a été présentée lors de la conférence IEEE SPIE en 2021 et publiée dans les actes de la conférence.



