Solutions de fabrication de circuits intégrés Calibre

Une solution complète de bout en bout comprenant toutes les étapes de préparation des données curvilinéaires, du retargeting vers SRAF, OPC, MPC et MDP, qui répond aux besoins de génération de masques curvilinéaires pour les applications spécialisées (SIpH) et les conceptions de mémoire.

Activation technologique pour les processus de photolithographie, y compris les ultraviolets extrêmes (EUV). Les outils de lithographie informatique Calibre offrent une précision et une rapidité accrues et permettent de réduire le coût de possession.

Permet la conversion des formats de données des masques et les tâches de vérification pour la fabrication des masques, y compris les derniers formats de masques multifaisceaux sur une plateforme Calibre entièrement compatible.

Fournit des optimisations pour les rédacteurs de masques à faisceau électronique. Les nouvelles fonctionnalités de correction et de modélisation améliorent la linéarité et l'uniformité des dimensions critiques du masque pour les nœuds avancés.

Répond aux défis du débit de production et de la gestion de l'utilisation du système tout en garantissant des délais d'exécution rapides malgré une complexité et des volumes de données toujours croissants.

Améliore le rendement des produits et accélère la cadence en structurant et en analysant d'énormes quantités de données, en créant des modèles d'apprentissage automatique prédictifs et en générant des analyses exploitables.

Calibre propose une solution complète d'infrastructure de flux offrant une autonomie et une cohérence supérieures afin de répondre aux exigences de fabrication des périphériques de mémoire et des produits dotés de matrices très répétitives.

La suite d'outils Calibre DFM comprend des outils d'analyse du rendement, d'imprimabilité et de validation des performances afin d'améliorer le rendement et d'optimiser la conception des circuits intégrés.