Προϊόν
all
Calibre EUV
Ολοκληρωμένη υποστήριξη για την αντιμετώπιση των μοναδικών προκλήσεων του EUV υψηλού NA, όπως τα αναμορφικά οπτικά και η τρισδιάστατη μοντελοποίηση μάσκας για να ληφθούν υπόψη τα εφέ σκίασης.
Calibre Computational Lithography
Η ακόρεστη ζήτηση για ολοκληρωμένα κυκλώματα (IC) συνεχίζει να οδηγεί σε μικρότερες κρίσιμες διαστάσεις. Οι διαδικασίες φωτολιθογραφίας, συμπεριλαμβανομένης της ακραίας υπεριώδους ακτινοβολίας (EUV), παρουσιάζουν όλο και μεγαλύτερη πολυπλοκότητα και όγκο δεδομένων. Οι λύσεις υπολογιστικής λιθογραφίας μας επιτρέπουν οικονομικά αποδοτική ενεργοποίηση τεχνολογίας.
Calibre Computational Lithography Προϊόντα
Τόσο οι λιθογραφικές προκλήσεις όσο και η υπολογιστική πολυπλοκότητα που σχετίζεται με τους προηγμένους κόμβους διεργασιών δημιουργούν ανάγκη για προηγμένες δυνατότητες στο λογισμικό και το υλικό υπολογιστικής λιθογραφίας. Η λύση Calibre προσφέρει την καλύτερη ακρίβεια, ταχύτητα και κόστος ιδιοκτησίας στην κατηγορία.
Προϊόν
all
Calibre nmOPC
Πυκνή οπτική εγγύτητα και διόρθωση διεργασίας για να επιτραπεί η βαθιά κατασκευή υπομικρονίων.
Προϊόν
all
Calibre nmSRAF
Εισάγει λειτουργίες υποανάλυσης (SRAF) σε ένα σχέδιο.
Προϊόν
all
Calibre OPCverify
Ισχυρή προσομοίωση πλήρους τσιπ και λιθογραφική ανάλυση.
Προϊόν
all
Calibre WORKbench
Το GUI χρησιμοποιείται για την εκκίνηση μιας ευρείας ποικιλίας εφαρμογών και για την προβολή αποτελεσμάτων.
Προϊόν
all
Διαμέτρηση NMModelFlow
Μηχανή βαθμονόμησης υψηλής κλιμάκωσης για οπτικά μοντέλα, μοντέλα αντίστασης και χάραξης.
Προϊόν
all
Calibre pxOPC
Γρήγορη, αντίστροφη διόρθωση οπτικής εγγύτητας με βάση pixel.
Προϊόν
all
Calibre pxSMO and RET Selection
Εύκολο στη χρήση GUI για βελτιστοποίηση της πηγής φωτισμού.