Η λιθογραφία EUV ή Extreme Ultraviolet είναι μια τεχνολογία που χρησιμοποιεί ένα πολύ μικρό μήκος κύματος φωτός (13.5nm) για την εκτύπωση εικόνων σε πλακέτες πυριτίου. Είναι απαραίτητο επειδή το μικρό μήκος κύματος του EUV, που είναι μικρότερο από το μέγεθος χαρακτηριστικών, καθιστά την εκτύπωση πολύ πιο εύκολη και είναι απαραίτητο για την επίτευξη ανάλυσης μοτίβου για κόμβους προηγμένης τεχνολογίας κατασκευής όπως 5nm, 3nm και όχι μόνο.

Το Calibre μοντελοποιεί όλα τα μοναδικά οπτικά εφέ EUV, όπως η φωτοβολίδα, η οποία περιλαμβάνει τόσο εφέ μικρής εμβέλειας όσο και μεγάλου βεληνεκούς. Το Calibre υποστηρίζει τη δημιουργία δυναμικού μοντέλου για τη μέθοδο αποσύνθεσης τομέα για να επιτρέψει τη συνεχή μοντελοποίηση της αζιμουθικής γωνίας, των εκτροπών, της αποδιόρθωσης και της παραλλαγής πηγής κατά μήκος της σχισμής χωρίς απώλεια ακρίβειας. Τα εφέ μάσκας 3D, όπως το εφέ σκίασης που προκαλείται από τον απορροφητή παχιάς μάσκας και ο φωτισμός εκτός άξονα, που ποικίλλει σε όλη τη σχισμή, μπορούν να αντισταθμιστούν με ακρίβεια. Το Calibre μοντελοποιεί επίσης το εφέ μαύρου περιγράμματος για να εξαλείψει τον αντίκτυπο απεικόνισης μέσω του OPC. Το Calibre είναι επίσης προετοιμασμένο για High NA EUV. Το Calibre είναι εξοπλισμένο με νέα χαρακτηριστικά και λειτουργίες για την υποστήριξη αναμορφικών οπτικών από τη μοντελοποίηση μέσω του OPC.

Τα SRAF είναι πιθανώς απαίτηση για τον κόμβο 5nm και κάτω στη λιθογραφία EUV. Τα SRAF έχουν θετικό αντίκτυπο στην κλίση καταγραφής εικόνας (ILS) μειώνοντας έτσι την τραχύτητα των άκρων γραμμής (LER) και ενισχύοντας το βάθος εστίασης (DOF). Λόγω του φωτισμού εκτός άξονα του EUV και των ποικίλων επιπτώσεων σκίασης μέσω διαχωρισμού, μπορεί να απαιτούνται ασύμμετρα SRAF τόσο σε οριζόντια όσο και σε κάθετη κατεύθυνση και ενδέχεται να απαιτούνται διαφορετικά SRAF σε διαφορετικές θέσεις σχισμών.

Η λύση SRAF της Calibre μπορεί να χρησιμοποιήσει μοντέλα EUV για τοποθέτηση SRAF. Το Calibre PxOPC μπορεί να δημιουργήσει ασύμμετρα SRAF και μπορεί να προσαρμοστεί ώστε να στοχεύει σε DOF, ILS ή συνδυασμό στόχων. Το Calibre NMSraf μπορεί να δημιουργήσει SRAF βάσει κανόνων χρησιμοποιώντας αποτελέσματα PxoPC ως πρότυπο και μπορεί να τοποθετήσει SRAF ασυμμετρικά. Το Calibre NMCLSraf παρέχει ευελιξία για σχήματα SRAF ελεύθερης μορφής από τη μηχανή αντίστροφης λιθογραφίας. Εφαρμόζει διαδοχικά πρότυπα, εκτελώντας καθαρισμό για συγκρούσεις MRC και μπορεί να δημιουργήσει καμπυλόγραμμες SRAF σε μάσκες EUV.

Το High NA (Numerical Aperture) EUV είναι μια εξέλιξη της λιθογραφίας EUV (από το σημερινό 0,33 NA σε >= 0,5 NA) που απαιτείται για την επίτευξη ανάλυσης μοτίβου για κόμβους προηγμένης τεχνολογίας. Το Calibre είναι ήδη προετοιμασμένο για High NA EUV. Τα προϊόντα μοντελοποίησης και σύνθεσης μάσκας της Calibre υποστηρίζουν ήδη τα αναμορφικά οπτικά από τη μοντελοποίηση μέσω OPC έως το MPC/MDP. Το OPC του Calibre EUV με πολλαπλά μοτίβα είναι αποδεδειγμένο από την κατασκευή και η βελτιστοποίηση μάσκας πηγής Calibre (SMO) περιλαμβάνει επίσης προηγμένες δυνατότητες για EUV υψηλού NA.

Το Calibre προσφέρει έναν πλήρη σχεδιασμό μέσω ροής κατασκευής για εφαρμογές EUV. Οι λύσεις EUV της Calibre αντιμετωπίζουν τις προκλήσεις παρέχοντας:

Πλήρης υποστήριξη μοντελοποίησης για EUV - Η τεχνολογία μοντελοποίησης του Calibre υποστηρίζει πλήρως όλα τα εφέ EUV, συμπεριλαμβανομένων των εφέ λάμψης, μαύρου περιγράμματος και εφέ μάσκας 3D.

Ολοκληρωμένη σουίτα προϊόντων - Όλα τα μοντελοποιημένα εφέ λαμβάνονται υπόψη σε προϊόντα Calibre όπως το Calibre PxSMo, το Calibre PxOPC, το Calibre nMOPC, το Calibre NmSraf και το Calibre OpcVerify, τα οποία χρησιμοποιούνται σήμερα στη μαγνητοσκόπηση.

Ιεραρχική Επεξεργασία Δεδομένων - Η ροή EUV Calibre έχει σχεδιαστεί σύμφωνα με την κύρια ιεραρχία ενώ χρησιμοποιεί πλήρη παγκόσμια μοντέλα EUV, επιτρέποντας γρήγορη και ακριβή ροή OPC.

Καμπυλόγραμμη Επεξεργασία Δεδομένων - Οι λύσεις προετοιμασίας δεδομένων Calibre Curvilinear Data Preparation Solutions μπορούν να ενεργοποιηθούν σε ολόκληρη τη ροή ταινιών μάσκας EUV.

Αξιοποιήστε την τεχνητή νοημοσύνη για την ακρίβεια επόμενου κόμβου - Το Calibre EUV περιλαμβάνει προηγμένες τεχνικές μηχανικής μάθησης για την επιτάχυνση της σύνθεσης μάσκας, προσφέροντας σημαντικές βελτιώσεις χρόνου εκτέλεσης διατηρώντας παράλληλα την ποιότητα λιθογραφίας.