Calibre Curvilinear MDP

Die Anforderungen an die Musterung lithografischer Verfahren der nächsten Generation und die Notwendigkeit, die Herstellungskosten niedrig zu halten, haben Lithografen dazu veranlasst, die Vorteile der krummlinigen Masken zu erkunden. Mehrere Studien, die durch die experimentellen Ergebnisse gestützt wurden, haben den lithografischen Vorteil krummliniger Photomasken gegenüber geradlinigen Näherungen nachgewiesen. Die Herstellbarkeit von krummlinigen Masken war aufgrund der Architektur der Beamwriter mit variabler Form begrenzt, wodurch sie sowohl aus Sicht der Maskendatenaufbereitung als auch aus Sicht des Maskenschreibens unerschwinglich waren. Die Verfügbarkeit von Mehrstrahl-Maskenschreibern hat diese Hindernisse beseitigt und die Einführung krummliniger Masken der Realität viel näher gebracht.

Lesen Kurven vor uns! Die IC-Herstellung bereitet sich auf krummlinige Masken vor um mehr über die Vorteile von krummlinigen Masken zu erfahren.

Die Calibre Curvilinear MDP MDP-Toolsuite ermöglicht die nahtlose Fortsetzung der Datenmanipulationen, die für Auflösungsverbesserungstechniken (RET) erforderlich sind, wie das Einfügen von Sub-Resolution Assist Features (sRAFs) und die optische Prozesskorrektur (OPC) sowie die Mask Process Correction (MPC) zur Konvertierung des Maskendatenformats in einem Batchlauf.

Traditionell unterstützten Multibeam-Maskenschreiber stückweise lineare (PWL) -Daten in ihren Datenpfaden. Vor Kurzem haben Anbieter von Multibeam Mask Writer native Multigon-Unterstützung für die neue Generation von Multibeam Mask Writer-Tools eingeführt. Der Zweck von Multigon besteht darin, krummlinige Daten mit dem nativen Kurvenformat für die Komprimierung der Dateigröße in den Maskenflüssen darzustellen. Die Anzahl der Scheitelpunkte, die zur Darstellung der Multigon-Daten verwendet werden, ist wesentlich geringer als die Scheitelpunkte, die zur Darstellung der stückweisen linearen Daten verwendet werden, was zu einer Verringerung der Dateigröße durch die Verwendung nativer Kurven für krummlinige Daten führt.

Das Bild unten zeigt ein Beispiel für PWL auf der linken Seite und Multigon auf der rechten Seite.

Die Calibre Curvilinear MDP MDP-Lösung unterstützt Mehrstrahlfrakturströmungen auf Basis von Multigon und ist mit den neuesten Multibeamformaten wie MBW 3.0 von IMS und MBF 2.1 von NuFlare aktiviert.

• Mehrgon-Abstandsprüfung: Die Mehrgon-Abstandsprüfung wurde entwickelt, um den Abstand zwischen Spline-Abschnitten auf Mehrgon-Ebenen zu messen und so die Einhaltung der Konstruktionsbeschränkungen sicherzustellen.
• Prüfung des Verhältnisses zwischen Tiefe, Breite und Tiefe: Die Prüfung für Tiefe und Breite stellt sicher, dass die Mindestbreite einer Mehrgonform innerhalb des akzeptablen Bereichs liegt, insbesondere wenn sie in einem bestimmten Tiefenbereich gemessen wird.
• Multigon Angle Check: Der Angle Check bewertet die Geometrie des Multigons, indem er den Spline-Winkel an jedem Point of Interest (POI) für einen bestimmten Radius berechnet.
• Multigon-Krümmungsprüfung: Die Krümmungsprüfung wurde entwickelt, um die Glätte und Biegequalität jedes Bezier-Spline-Abschnitts innerhalb eines Multigons zu bewerten, indem der minimale Krümmungsradius entlang seiner Kontur berechnet wird.

Das Bild oben zeigt Beispiele für externe Entfernungsprüfung (oben links), interne Abstandskontrolle (oben rechts), Spitzenerkennung (unten links) und Tiefen-Breiten-Kontrolle (unten rechts).