Produkt
all
Calibre EUV
Umfassender Support zur Bewältigung der einzigartigen Herausforderungen von EUV mit hoher NA, wie z. B. anamorphotische Optik und Masken-3D-Modellierung zur Berücksichtigung von Schatteneffekten.
Calibre Computational Lithography
Die unersättliche Nachfrage nach integrierten Schaltungen (ICs) sorgt weiterhin für kleinere kritische Abmessungen. Fotolithografieprozesse, einschließlich extremer Ultraviolett (EUV), sorgen für immer mehr Komplexität und Datenvolumen. Unsere Lösungen für rechnergestützte Lithografie ermöglichen eine kostengünstige Technologieunterstützung.
Calibre Produkte für rechnergestützte Lithografie
Sowohl die lithografischen Herausforderungen als auch die Rechenkomplexität, die mit fortschrittlichen Prozessknoten verbunden ist, erfordern erweiterte Fähigkeiten in der Software und Hardware für die rechnergestützte Lithografie. Die Calibre-Lösung bietet erstklassige Genauigkeit, Geschwindigkeit und Betriebskosten.
Produkt
all
Calibre nmOPC
Dichte optische Nähe und Prozesskorrektur, um eine Fertigung im Submikronbereich zu ermöglichen.
Produkt
all
Calibre nmSRAF
Fügt Unterauflösungsunterstützungsfunktionen (SRAFs) in ein Design ein.
Produkt
all
Calibre OPCverify
Leistungsstarke Full-Chip-Simulation und lithographische Analyse.
Produkt
all
Calibre WORKbench
Die GUI wurde verwendet, um eine Vielzahl von Anwendungen zu starten und Ergebnisse anzuzeigen.
Produkt
all
Kaliber NM ModelFlow
Hochgradig skalierbares Kalibrationsmodul für optische Modelle, Resist- und Ätzmodelle.
Produkt
all
Calibre pxOPC
Schnelle, inverse pixelbasierte optische Näherungskorrektur.
Produkt
all
Calibre pxSMO and RET Selection
Einfach zu bedienende GUI zur Optimierung der Beleuchtungsquelle.