Engineering Data Management for IC Packaging (EDM-P) ist eine neue optionale Funktion, die das Ein- und Auschecken der Revisionskontrolle für die i3D- und XPD-Datenbanken ermöglicht. EDM-P verwaltet auch die Integrations- „Snapshot“ -Datei sowie alle Design-IP-Quelldateien, die zur Konstruktion eines Designs verwendet werden, wie CSV, Verilog, Lef/Def, GDSII und OASIS. Die Verwendung von EDM-P ermöglicht es Designteams, zusammenzuarbeiten und alle Informationen und Metadaten für ICP-Projektordner und -dateien zu verfolgen. Es ermöglicht dem Designteam, genau zu überprüfen, welche Quelldateien im Design verwendet wurden, bevor es auf Band übertragen wird, um Fehler zu vermeiden.

Was ist neu im Bereich Halbleiterverpackungen 2504
2504 ist eine umfassende Version, die die Versionen 2409 und 2409 Update #3 ersetzt. 2504 beinhaltet die folgenden neuen Funktionen/Funktionen in Innovator3D IC (i3D) und Xpedition Package Designer (xPD).
Was ist neu in Innovator3D IC 2504 Update 1
2504 Update 1 ist eine umfassende Version, die die Basisversionen 2504 und 2409 sowie all ihre nachfolgenden Updates ersetzt. Laden Sie das vollständige Informationsblatt herunter, um mehr über die neuesten Funktionen in diesem Update zu erfahren.

Innovator 3D IC 2504 Update 1
Die Berechnung der Metalldichte wurde in der Baseline-Version 2504 eingeführt. Dieses Update beinhaltet eine Berechnung des gleitenden Fensterdurchschnitts, die verwendet wird, um Paketverzerrungen vorherzusagen.
Mit dieser Funktion können Sie die durchschnittliche Metalldichte im Entwurfsbereich überprüfen, um zu sehen, wo Metall hinzugefügt oder entfernt werden sollte, um das Risiko einer Verformung des Substrats zu minimieren.
Mit dieser neuen Option kann der Designer die Fenstergröße und den Gridstep festlegen. Der Benutzer kann auch einen Verlaufsmodus wählen, der mit benutzerdefinierten Colormaps verwendet werden kann, um eine Verlaufsfarbe zu erhalten, die automatisch zwischen den Fixfarben in Ihrer Colormap interpoliert wird.
Das gehört dazu, den Grundriss als virtuellen Würfel zu verwenden, den Sie hierarchisch auf einem anderen Grundriss instanziieren können. Während des Lef/Def-Imports können Sie jetzt wählen, ob Sie dafür eine Schnittstelle generieren möchten.
Wir haben jetzt die Funktion „Neues Stanzdesign hinzufügen“, um ein auf Grundriss basierendes VDM (Virtual Die Model) zu erstellen. Das neue VDM, das auf Grundrissen basiert, ist multithreadfähig und hat eine viel höhere Leistung für große Düsen.
Ursprünglich mit Version 2504 veröffentlicht, exportierten wir Interposer Verilog und Lef Def, um IC Place & Route Tools wie Aprisa zu steuern, um Silizium-Interposer mit einem Foundry-PDK zu routen.
In dieser Version sind wir noch einen Schritt weiter gegangen und bieten auch IC P&R Lef/Def/Verilog auf Geräteebene an.
Das ist wertvoll, wenn Sie eine Siliziumbrücke oder einen Silizium-Interposer in Ihrem Design haben und diese mit einem IC-P&R-Werkzeug mit einem von der Gießerei gelieferten PDK verlegen müssen.
Um das zu tun, wollen Sie zur Silcon Bridge/Interposer-Gerätedefinition gehen und LEF mit Padstack-Definitionen und DEF mit Pins als Instanzen dieser Padstacks und Verilog mit „Functional Signal“ -Ports exportieren, die durch interne Netze verbunden sind, und Pins, die als Modulinstanzen dargestellt werden.
In dieser Version haben wir Funktionen und GUI-Unterstützung dafür hinzugefügt: Markieren Sie das Kontrollkästchen „Als Padstack-Definitionen exportieren“.
Sie können eine Liste der Ebenen angeben, die Sie im Makro sehen möchten, und den Namen des exportierten Pins festlegen.
Im Jahr 2504 haben wir den ersten Schritt unserer automatischen Erstellung von Skizzen veröffentlicht.
In dieser Version bilden wir intelligent Nadelgruppen und verbinden sie mit der optimalen Seite des Würfels, um dem Skizzenplan zu entkommen.
Fortgeschrittene Clustering-Architektur
- Hat einen ausgeklügelten zweiphasigen Clustering-Ansatz implementiert
- Verbesserte Pin-Organisation durch Zweikomponenten-Analyse (Quelle und Ziel)
- Intelligente Mechanismen zur Erkennung und Filterung von Ausreißern
Das liefert präzise und logische Pin-Clustering-Ergebnisse, was zu einer verbesserten Effizienz und weniger manuellen Anpassungen führt.
Start-/Endpunktberechnungen für Skizzenpläne:
Es wurden erhebliche Verbesserungen an der Planung von Verbindungen zwischen Komponenten vorgenommen, wodurch sie natürlicher und effizienter werden.
Zu den wichtigsten Funktionen für die Sketchplan-Generierung in dieser Version gehören:
- Formen verwenden, die auf dem Muster der Stecknadelgruppen basieren, anstatt nur Rechtecke
- Umgang mit unregelmäßigen Nadelgruppenmustern
- Erstellung von Verbindungspunkten am Start- und Endpunkt des Skizzenplans durch Ausweichen außerhalb der Komponentenumrisse
Die besten Verbindungspunkte finden
- Unter Berücksichtigung der Form, die durch Gruppen von Stiften gebildet wird
- Lokalisieren, wo die Form dem Rand des Bauteilumrisses am nächsten kommt
- Auswahl des besten Standorts, der den kürzest möglichen Weg bietet
Veröffentlichung von Innovator3D IC 2504
i3D importiert und exportiert jetzt 3Dblox-Dateien, die eine komplette Paketzusammenstellung enthalten, die alle drei Datenstufen unterstützt (Blackbox, Lef/Def, GDSII). i3D kann auch 3Dblox-Daten erstellen und bearbeiten, sodass es das nachgelagerte Design-, Analyse- und Verifizierungsökosystem steuern kann. Es hat einen eingebauten Debugger, der 3Dblox-Syntaxprobleme beim 3Dblox-Lesen identifizieren kann, was sehr nützlich ist, wenn es um 3Dblox-Dateien von Drittanbietern geht.
Damit prädiktive Planung und Analyse aussagekräftigere Ergebnisse liefern können, haben wir eine Reihe neuer Funktionen eingeführt, wie das Prototyping von Strom- und Bodenflächen und die Möglichkeit, Unified Power Format (UPF) zu importieren, um genauere SI/PI- und Wärmeanalysen zu ermöglichen. Da das Testen eine große Herausforderung bei der heterogenen Integration mehrerer Chiplets darstellt, haben wir die Multi-Die-Fähigkeit von Tessent für die Design for Test (DFT) -Planung integriert.
Designer können jetzt die Metalldichte auf allen Geräten und Grundrissen analysieren, was die Entwicklung von Stoßmustern ermöglicht, die Verformungen und Spannungen minimieren. Die Funktion meldet die Dichte sowohl in Zahlen als auch in überlagerten Diagrammen. Designer können die Präzision anpassen, um Genauigkeit und Geschwindigkeit abzuwägen.
Eines der Hauptziele der neuen Benutzererfahrung, die 2409 eingeführt wurde, war die Steigerung der Produktivität von Designern. In diesem Zusammenhang führen wir KI-gestützte prädiktive Befehle ein, die lernen, wie ein Benutzer den Befehl entwirft und vorhersagt, den er möglicherweise als Nächstes verwenden möchte.
Wenn fortschrittliche Pakete größer werden und mehr anwendungsspezifische integrierte Schaltungen (ASICs), Chiplets und High Bandwidth Memory (HBM) enthalten, nimmt die Konnektivität dramatisch zu, was es für Designer schwieriger macht, diese Konnektivität für das Routing zu optimieren. Die Optimierung der Konnektivität war in der ersten Version von Innovator3D IC verfügbar, aber es wurde schnell klar, dass die Designs seine Möglichkeiten übertrafen. Dies führte zum grundlegenden Entwurf einer neuen Optimierungsengine, die die zunehmende Komplexität von Designs, einschließlich Differentialpaaren, bewältigen kann.
Die bestehende 3D-Grundrissansicht ist der einfachste Weg, das Gerät und den Lagenaufbau Ihres Entwurfs zu überprüfen. Es ist jetzt einfacher, Ihre Gerätemontage mit der neuen Höhensteuerung der Z-Achse visuell zu überprüfen. Dies berücksichtigt den Komponententyp, die Zellenform, die Stapelschichten, die Ausrichtung und die Definition der Teilstapel.
Version 2504 von Xpedition Package Designer
Kontinuierliche Verbesserung der interaktiven Bearbeitungsleistung in gezielten Softwareentwicklungsszenarien:
- Bewegung von Spuren mit ungeraden Winkeln auf großen Netzen — Bis zu 77% schneller
- Verfolgen Sie die Segmentbewegung nach dem Shove-Trace zurück zur ursprünglichen Position — bis zu 8-mal schneller
- Ziehen eines Trace-Busses, der riesige Netzabschirmungsspuren beinhaltet — bis zu zweimal schneller
- Glänzend riesiger Netzspuren — bis zu 10-mal schneller
- Interaktive Bearbeitungen von Forced Order Net an großen Paketen, wenn aktive Freigaben aktiviert sind — bis zu 16-mal schneller
Oft sind detaillierte Analysen, wie die dreidimensionale elektromagnetische Modellierung (3DEM), nur für einen bestimmten Bereich des Entwurfs erforderlich. Die Ausgabe des gesamten Entwurfs ist zeitaufwändig und kann oft langsam sein. Diese neue Funktion ermöglicht den Export bestimmter Layout-Entwurfsbereiche, die simuliert oder analysiert werden müssen, wodurch der Informationsaustausch zwischen Layout und HyperLynx effizienter wird.
Designer können jetzt eDTC-Komponenten aus generierten ODB++-Dateien herausfiltern, die für die Substratherstellung verwendet werden.
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Hinweis: Im Folgenden finden Sie eine kurze Zusammenfassung der Höhepunkte der Veröffentlichung. Siemens-Kunden sollten sich die Versionshighlights ansehen auf Support-Center für detaillierte Informationen zu allen neuen Funktionen und Verbesserungen.