Calibre EUV

EUV nebo Extreme Ultraviolet litografie je technologie, která používá velmi malou vlnovou délku světla (13,5 nm) k tisku obrázků na křemíkové destičky. Je to nutné, protože malá vlnová délka EUV, která je menší než velikost funkce, usnadňuje tisk a je nezbytná pro dosažení rozlišení vzorů pro uzly pokročilé výrobní technologie, jako jsou 5 nm, 3 nm a další.

Calibre modeluje všechny jedinečné optické efekty EUV, jako je odlesk, který zahrnuje efekty krátkého i dlouhého dosahu. Calibre podporuje generování dynamického modelu pro metodu rozkladu domény, což umožňuje kontinuální modelování azimutálního úhlu, aberací, apodizace a variace zdroje napříč štěrbinou bez ztráty přesnosti. Efekty 3D masky, jako je efekt stínování způsobený tlumičem silné masky a osvětlení mimo osu, které se mění napříč štěrbinou, lze přesně kompenzovat. Calibre také modeluje efekt černého okraje, aby eliminoval jeho zobrazovací dopad prostřednictvím OPC. Calibre je také připraven pro High NA EUV. Calibre je vybaven novými funkcemi a funkcemi pro podporu anamorfní optiky od modelování přes OPC.

SRAF jsou pravděpodobně požadavkem na 5nm uzel a níže v litografii EUV. SRAF mají pozitivní vliv na sklon záznamu obrazu (ILS), čímž snižují drsnost hrany čáry (LER) a zvyšují hloubku zaostření (DOF). Vzhledem k mimoosému osvětlení EUV a různým efektům stínování prostřednictvím rozdělení mohou být zapotřebí asymetrické SRAF ve vodorovném i svislém směru a na různých místech štěrbin mohou být vyžadovány různé SRAF.

Řešení SRAF společnosti Calibre může používat modely EUV pro umístění SRAF. Calibre PxOPC může generovat asymetrické SRAF a lze jej upravit tak, aby cílil na DOF, ILS nebo směs cílů. Calibre NMSraf může generovat SRAF založené na pravidlech pomocí výsledků PxoPC jako šablony a může umísťovat SRAF asymetricky. Calibre NMCLSraf poskytuje flexibilitu pro volné tvary SRAF z modulu Inverse Lithography. Postupně aplikuje šablony, provádí začištění pro konflikty MRC a může generovat křivočaré SRAF na maskách EUV.

Vysoká NA (Numerical Aperture) EUV je vývoj litografie EUV (z dnešního 0,33 NA na >= 0,5 NA), který je vyžadován pro dosažení rozlišení vzoru pro uzly pokročilé technologie. Calibre je již připraven pro High NA EUV. Produkty Calibre pro modelování a syntézu masek již podporují anamorfní optiku od modelování přes OPC až po MPC/MDP. Calibre EUV OPC s vícenásobným vzorováním je výrobně osvědčený a optimalizace zdrojové masky Calibre (SMO) také obsahuje pokročilé funkce pro EUV s vysokým obsahem NA.

Calibre nabízí kompletní návrh prostřednictvím výrobního toku pro aplikace EUV. Řešení EUV společnosti Calibre řeší výzvy tím, že poskytují:

Plná podpora modelování pro EUV - Modelovací technologie Calibre plně podporuje všechny efekty EUV včetně efektů odlesku, efektu černého okraje a efektů 3D masky.

Komplexní produktová sada - Všechny modelované efekty jsou zohledněny v produktech Calibre, jako jsou Calibre PxSMo, Calibre PxOPC, Calibre nMOPC, Calibre NMSraf a Calibre OPCVerify, které se dnes používají v páskování.

Hierarchické zpracování dat - Průtok EUV Calibre je navržen podle hlavní hierarchie při použití úplných globálních modelů EUV, což umožňuje rychlý a přesný tok OPC.

Zakřivené zpracování dat - Řešení Calibre Curvilinear Data Preparation Solutions lze povolit v celém toku pásky masky EUV.

Využijte AI pro přesnost dalšího uzlu - Calibre EUV zahrnuje pokročilé techniky strojového učení, které urychlují syntézu masek a nabízejí významná vylepšení doby běhu při zachování kvality litografie.