Produkt
all
Calibre EUV
Komplexní podpora řešení jedinečných výzev EUV s vysokým obsahem NA, jako je anamorfní optika a maskování 3D modelování za účelem zohlednění efektů stínování.
Calibre Computational Lithography
Neukojitelná poptávka po integrovaných obvodech (IC) nadále řídí menší kritické rozměry. Fotolitografické procesy, včetně extrémního ultrafialového záření (EUV), představují stále větší složitost a objem dat. Naše řešení pro výpočetní litografii umožňují nákladově efektivní využití technologií.
Calibre Computational Lithography Produkty
Jak litografické výzvy, tak výpočetní složitost spojená s pokročilými procesními uzly vytvářejí potřebu pokročilých schopností v softwaru a hardwaru výpočetní litografie. Řešení Calibre nabízí nejlepší přesnost, rychlost a náklady na vlastnictví ve své třídě.
Produkt
all
Calibre nmOPC
Hustá optická blízkost a korekce procesu umožňující hlubokou výrobu submikronů.
Produkt
all
Calibre nmSRAF
Vloží pomocné prvky pro dílčí rozlišení (SRAF) do návrhu.
Produkt
all
Calibre OPCverify
Výkonná celočipová simulace a litografická analýza.
Produkt
all
Calibre WORKbench
GUI slouží ke spouštění široké škály aplikací a k zobrazení výsledků.
Produkt
all
Caliber NMModelFlow
Vysoce škálovatelný kalibrační motor pro optické, odolné a leptané modely.
Produkt
all
Calibre pxOPC
Rychlá, inverzní pixelová optická korekce přiblížení.
Produkt
all
Calibre pxSMO and RET Selection
Snadno použitelné GUI pro optimalizaci zdroje osvětlení.