Calibre IC Manufacturing Řešení

Kompletní komplexní řešení zahrnující všechny kroky přípravy křivočarých dat od přesměrování po SRAF, OPC, MPC a MDP, které řeší potřeby generování křivočarých masek speciálních aplikací (SiPH) a návrhů paměti.

Technologické umožnění fotolitografických procesů, včetně extrémního ultrafialového záření (EUV). Výpočetní litografické nástroje Calibre nabízejí vyšší přesnost, rychlost a nižší náklady na vlastnictví.

Umožňuje převod formátů dat masky a ověřovací úlohy pro výrobu masek včetně nejnovějších formátů masky s více paprsky na plně kompatibilní platformě Calibre.

Poskytuje optimalizace pro zapisovače masek elektronického paprsku. Nové možnosti korekce a modelování zlepšují linearitu a jednotnost kritických kót masky pro pokročilé uzly.

Splňuje výzvy spojené s výkonností výroby a správou využití systému a zároveň dosahuje rychlých časů obratu navzdory stále rostoucí složitosti a objemu dat.

Zlepšuje výtěžnost produktu a poskytuje rychlejší nárůst strukturováním a analýzou obrovského množství dat, vytvářením prediktivních modelů strojového učení a generováním proveditelných analýz.

Calibre nabízí kompletní řešení infrastruktury toku poskytující vynikající dobu běhu a konzistenci pro splnění výrobních požadavků paměťových zařízení a produktů s vysoce opakujícími se poli.

Sada nástrojů Calibre DFM obsahuje nástroje pro analýzu výtěžnosti, tisknutelnost a ověřování výkonu pro zvýšení výtěžnosti a optimalizaci návrhů integrovaných obvodů.