多光束遮罩筆器技術的演變推動了針對先進節點的曲線光面膜應用程序的快速發展。Calibre Curvilinear MDP 提供全面曲線遮罩資料準備 (CLMDP) 解決方案，適用於新的多樑斷裂格式的斷裂、驗證和檢視。
多光束遮罩編寫器 (MBMW) 允許使用理想的曲線形狀進行逆光刻印 (ILT) 遮罩，但目前的配置格式不足以從光學接近校正 (OPC) 到遮罩製作，有效地表示複雜的 ILT 設計。在 2019 年，我們啟動了一個數據格式工作小組，以解決 MBMW 對曲線數據表示的需求。曲線數據格式工作小組包括來自 EDA 公司和先進口罩製造商的成員。本文將介紹新的曲線數據格式的必要性以及我們的工作小組的目標。我們將討論工作小組的進度和計劃。本文的一個版本在 2021 年 IEEE SPIE 會議上發表，並在會議論文集中發表。
Calibre Curvilinear MDP 支援基於多光束斷裂格式，這可讓您在多光束遮罩寫入器上一路維持原生曲線表示的優點。
與順序執行的傳統遮罩處理步驟不同，可以執行連接 OPC、MPC 和 MDP 的整合式管線流程，以縮短曲線遮罩處理的執行時間。
曲線遮罩資料準備流程的整合無需中間檔案交換即可運作，並允許記憶體內處理以消除磁碟 I/O 作業。
Calibre MDP 提供在原生多邊形上執行曲線 MRC 檢查的方法，並確保在曲線性後帶輸出流程中符合遮罩製造限制。
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