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Calibre Computational Lithography

對集成電路 (IC) 的滿足需求繼續推動更小的關鍵維度。光學製程，包括極端紫外線 (EUV)，具有越來越複雜性和數據量。我們的計算平版解決方案可實現成本效益的技術支援。

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Calibre Computational Lithography 產品

與進階製程節點相關的平版畫挑戰和計算複雜度，都需要運算平版軟體和硬體的進階功能。Calibre 解決方案提供同級最佳的準確度、速度和擁有成本。

塑料夾盒中的矽晶圓
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Calibre EUV

全面支援解決高 NA EUV 的獨特挑戰，例如異形光學和遮罩 3D 建模，以考慮陰影效果。