Calibre IC Manufacturing 解決方案

完整的端對端解決方案，包括從重新定位到 SRAF、OPC、MPC 和 MDP 的所有曲線資料準備步驟，可滿足特殊應用程式 (SiPH) 和記憶體設計的曲線遮罩產生需求。

技術支援光學製程，包括極端紫外線 (EUV)。Calibre 計算平版工具提供更高的準確度、速度和降低擁有成本。

在完全兼容的 Calibre 平台中啟用遮罩資料格式轉換和驗證工作，包括在完全兼容的 Calibre 平台中的最新多光束遮罩格式。

e-beam 遮罩撰寫器提供最佳化功能。新的校正和建模功能可改善高級節點的遮罩關鍵尺寸線性和均勻性。

儘管複雜度和數據量不斷增加，但仍能滿足生產輸送量和系統利用率管理的挑戰，同時實現快速的周轉時間。

透過結構和分析大量資料、建立預測性機器學習模型並產生可行的分析，提高產品產量並提供更快速的提升。

Calibre 提供完整的流程基礎架構解決方案，提供卓越的運行時間和一致性，以滿足具有高度重複性陣列的記憶體設備和產品的製造需求。

Calibre DFM 工具套件包括產量分析、可列印性和效能驗證工具，以提高產量並優化 IC 設計。