符合製造要求
先進的基板技術需要複雜的金屬填充區域。您將有關排氣空間插入、金屬平衡和球/碰撞熱結合的指南。信號路由、路線調整和全金屬區域填充的創建/編輯操作之間的互通性成為強制性。
技術概述
以磁帶輸出結果動態執行
由於製程、調整和區域填充操作之間的互通性,實現半導體包裝品質。自動和互動式漸進脫氣和金屬平衡可讓您將層對平衡到指定的臨界值。有了多執行緒動態平面引擎,您可以在建立 OASIS 或 GDSII 遮罩集之前,結果始終準備好磁帶輸出,無需進行後處理。

先進的基板技術需要複雜的金屬填充區域。您將有關排氣空間插入、金屬平衡和球/碰撞熱結合的指南。信號路由、路線調整和全金屬區域填充的創建/編輯操作之間的互通性成為強制性。
由於製程、調整和區域填充操作之間的互通性,實現半導體包裝品質。自動和互動式漸進脫氣和金屬平衡可讓您將層對平衡到指定的臨界值。有了多執行緒動態平面引擎,您可以在建立 OASIS 或 GDSII 遮罩集之前,結果始終準備好磁帶輸出,無需進行後處理。
