Calibre IC 制造解决方案

一个完整的端到端解决方案，包括从重定向到SRAF、OPC、MPC和MDP的所有曲线数据准备步骤，可满足专业应用程序 (siPH) 和存储器设计的曲线掩模生成需求。

光刻工艺的技术支持，包括极紫外 (EUV)。Calibre 计算光刻工具可提高精度、速度并降低拥有成本。

支持掩模数据格式转换和验证任务，包括完全兼容的 Calibre 平台中的最新多光束掩模格式。

为电子束掩模编写器提供优化。新的校正和建模功能提高了高级节点的掩模临界尺寸线性度和均匀性。

尽管复杂性和数据量不断增加，但仍能应对生产吞吐量和系统利用率管理的挑战，同时实现快速周转时间。

通过构建和分析大量数据、创建预测性机器学习模型和生成可操作的分析，提高产品产量并提供更快的上升速度。

Calibre 提供完整的流程基础设施解决方案，提供卓越的运行时间和一致性，以满足存储器设备和具有高度重复阵列的产品的制造要求。

Calibre DFM 工具套件包括良率分析、可打印性和性能验证工具，以提高产量和优化 IC 设计。