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概述

Calibre Pattern Matching

在高级节点上,SoC 设计人员必须在自定义 SRAM 以获得更好的性能和对产量的潜在影响之间取得平衡。通过模式匹配和相似度检查来增强 SRAM 调试,使 SRAM 设计人员能够在设计灵活性和产量之间找到更好、更精确的平衡。

主要特征

自动模式分类、匹配和调试

Calibre Pattern Matching 工具集成了 Calibre 验证工具套件,提供签核质量的模式分类、匹配和调试。受益于所有 Calibre 设计和制造流程中图案匹配的速度和准确性。

可在 Calibre 范围内工作

已集成到 Calibre 平台中

Calibre Pattern Matching 工具在 Calibre 平台内运行,可实现基于模式的强大集成设计验证和制造流程。模式补充了基于多操作文本的设计规则检查,简化了复杂的布局描述。

带有电子元件和连接的电路板图案,背景为蓝色背景
简化复杂的设计规则

模拟和数字流程的设计师协助

只需简单调用 Calibre Pattern Matching 流程,即可简化需要多层设备对称性的复杂设计规则。利用已知的良好模式来验证是否有任何修改,从而省去了漫长的调试时间。与 Calibre 签署 DRC 卡片和 Calibre RealTime 接口配对,可简化所有主要 P&R 和设计环境中的验证。

彩色几何形状和线条在深色背景下形成图案
增强铸造应用程序

支持主要铸造厂的高级验证流程

Calibre Pattern Matching 技术支持所有主要铸造厂的高级验证流程。从标记已知的产量影响因素,到识别知识产权修改,再到增强基于仿真的流程,Calibre 图案处理增强了许多铸造应用。

科学家在实验室的大屏幕上检查 DNA 序列

Calibre Pattern Matching 精选资源

浏览我们的精选资源或访问完整的 Calibre Pattern Matching 资源库,查看在线讲座点播、白皮书和情况说明书。

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Calibre IC 设计与制造

Calibre 工具套件可为所有工艺节点和设计风格提供准确、高效、全面的 IC 验证和优化,同时最大限度地减少资源使用和流片计划。