满足制造要求
先进的基材技术需要复杂的金属填充区域。您将获得有关排气孔插入、金属平衡和球形/碰撞热束带的指导方针。信号路由、路线调整和全金属区域填充创建/编辑操作之间的互操作成为必备条件。
技术概述
使用录制结果动态执行
借助路由、调整和区域填充操作之间的互操作性,实现半导体封装质量。自动和交互式分级脱气和金属平衡允许您将层对平衡到指定的阈值。使用多线程动态平面引擎,在创建 OASIS 或 GDSII 掩码集之前,结果可以随时录音,无需进行后处理。

先进的基材技术需要复杂的金属填充区域。您将获得有关排气孔插入、金属平衡和球形/碰撞热束带的指导方针。信号路由、路线调整和全金属区域填充创建/编辑操作之间的互操作成为必备条件。
借助路由、调整和区域填充操作之间的互操作性,实现半导体封装质量。自动和交互式分级脱气和金属平衡允许您将层对平衡到指定的阈值。使用多线程动态平面引擎,在创建 OASIS 或 GDSII 掩码集之前,结果可以随时录音,无需进行后处理。
