使用节点和性能优化小芯片的三维异构集成与 Siemens EDA 市场领先的 3D IC 解决方案,更快地探索和实现产品差异化。
半导体工程采访了行业专家,以了解更多信息为 3D IC 及其对当前工具和工作流程的影响做准备。
工程部门与行业专家坐下来详细了解面临的挑战开发三维集成电路所需的设计工具和方法的变化包装。
更快地实现三维集成电路创新需要成功实现异构三维集成电路的基础推动因素。在这篇SemiWiki文章中了解这些推动因素和系统协同优化(STCO)方法。
五个工作流程采用重点领域有利于管理方法论流程,该流程可最大限度地降低风险和成本,同时缩短上市时间。在这篇Semiwiki.com文章中了解有关五种工作流程的更多信息。
在高级封装设计中,设计人员在管理 3D IC 组件的系统级网表时可能会面临挑战。在这篇Semiwiki.com文章中,了解设计人员如何创建系统级网表来检查连接错误。
在 3D IC 系统级设计中建立信心和灵活性,实现系统连接。阅读这篇技术设计论坛文章,了解如何过渡到高级系统级连接流程。
系统技术协同优化可以更早地考虑架构和技术的权衡,并允许设计人员考虑更多场景。在这篇Semiwiki.com文章中了解前端架构规划。
要充分发挥 3D IC 的潜力,需要具有成本效益的前端设计方法,使工程师和架构师能够评估设计选项及其影响。阅读这篇半导体工程文章,了解更多信息。
确保芯片、硅中介层和有机衬底的预期连接性。阅读这篇半导体工程文章,了解有关捕获系统级连接和执行装配验证的更多信息。
捕获装配连接以进行装配验证对于 2.5D 和 3D 设计来说是一项挑战。阅读这篇技术设计论坛文章,了解如何捕捉完整画面。
哪些技术符合新的 DFT 三维测试标准,自动化解决方案的开发在哪里可以提供帮助?阅读这篇3D InCities文章,详细了解三维集成电路设计的测试设计。