Sản phẩm
all
Calibre EUV
Hỗ trợ toàn diện giải quyết những thách thức độc đáo của EUV có hàm lượng Na cao như quang học dị hình và mô hình 3D mặt nạ để tính đến các hiệu ứng tạo bóng.
Calibre Computational Lithography
Nhu cầu vô độ đối với các mạch tích hợp (IC) tiếp tục thúc đẩy các kích thước quan trọng nhỏ hơn. Các quá trình quang học, bao gồm cả tia cực tím cực đoan (EUV), thể hiện sự phức tạp và khối lượng dữ liệu hơn bao giờ hết. Các giải pháp in thạch bản tính toán của chúng tôi cho phép hỗ trợ công nghệ hiệu quả về chi phí.
Sản phẩm in thạch bản Calibre Computational Lithography
Cả những thách thức về in thạch bản và độ phức tạp tính toán liên quan đến các nút quy trình tiên tiến đều tạo ra nhu cầu về các khả năng nâng cao trong phần mềm và phần cứng in thạch bản tính toán. Giải pháp Calibre cung cấp độ chính xác, tốc độ và chi phí sở hữu tốt nhất trong phân khúc.
Sản phẩm
all
Calibre nmOPC
Độ gần quang học dày đặc và hiệu chỉnh quy trình để cho phép sản xuất submicron sâu.
Sản phẩm
all
Calibre nmSRAF
Chèn các tính năng hỗ trợ độ phân giải phụ (SRAF) vào thiết kế.
Sản phẩm
all
Calibre OPCverify
Mô phỏng toàn chip mạnh mẽ và phân tích in thạch bản.
Sản phẩm
all
Calibre WORKbench
GUI được sử dụng để khởi chạy một loạt các ứng dụng và để xem kết quả.
Sản phẩm
all
Calibre NMModelFlow
Công cụ hiệu chuẩn có khả năng mở rộng cao cho các mô hình quang học, kháng cự và khắc.
Sản phẩm
all
Calibre pxOPC
Hiệu chỉnh độ tiệm cận quang học dựa trên pixel nhanh, nghịch đảo.
Sản phẩm
all
Calibre pxSMO and RET Selection
GUI dễ sử dụng để tối ưu hóa nguồn chiếu sáng.