Tạo mặt nạ đường cong toàn chip EUV cung cấp thời gian xử lý tối đa nhưng công nghệ được sử dụng để sản xuất các mặt nạ này vẫn quá chậm đối với sản xuất logic toàn chip. Chúng tôi xem xét một số cách tiếp cận thay thế để chỉ sử dụng công nghệ in thạch bản nghịch đảo (ILT) cung cấp thời gian chạy nhanh hơn từ 4x đến hơn 100 lần với các số liệu in thạch bản rất giống nhau.
Những gì bạn sẽ học được:
- Tại sao công nghệ in thạch bản nghịch đảo (ILT) không thực tế đối với việc tạo mặt nạ đường cong toàn chip EUV.
- Những cách tiếp cận thay thế nào tồn tại với thời gian chạy nhanh hơn cũng đạt được cửa sổ quy trình tối đa.
- Cách tạo mặt nạ đầu ra đường cong với thời gian chạy nhanh hơn từ 4x đến hơn 100 lần.
