Продукт
all
Calibre EUV
Комплексна підтримка вирішення унікальних проблем EUV з високим вмістом НК, таких як анаморфна оптика та 3D-моделювання маски для врахування ефектів затінення.
Calibre Computational Lithography
Ненаситний попит на інтегральні схеми (ІС) продовжує стимулювати менші критичні розміри. Процеси фотолітографії, включаючи екстремальний ультрафіолет (EUV), представляють все більшу складність та обсяг даних. Наші рішення для обчислювальної літографії забезпечують економічно ефективну технологію.
Calibre Computational Lithography Продукти
Як
літографічні проблеми, так і обчислювальна складність, пов'язана з передовими технологічними вузлами, створюють потребу в розширених можливостях у програмному та апаратному забезпеченні обчислювальної літографії. Рішення Calibre забезпечує найкращу у своєму класі точність, швидкість та вартість володіння.
Продукт
all
Calibre nmOPC
Щільна оптична близькість та корекція процесу для забезпечення глибокого субмікронного виробництва.
Продукт
all
Calibre nmSRAF
Вставляє допоміжні функції роздільної здатності (SRAF) у дизайн.
Продукт
all
Calibre OPCverify
Потужне повночіпове моделювання та літографічний аналіз.
Продукт
all
Calibre WORKbench
Графічний інтерфейс використовується для запуску найрізноманітніших додатків і для перегляду результатів.
Продукт
all
Калібр NMмодельний потік
Високомасштабований калібрувальний двигун для оптичних моделей, моделей опору та травлення.
Продукт
all
Calibre pxOPC
Швидка, обернена піксельна оптична корекція наближення.
Продукт
all
Calibre pxSMO and RET Selection
Простий у використанні графічний інтерфейс для оптимізації джерела освітлення.