Літографія EUV, або Extreme Ultraviolet, - це технологія, яка використовує дуже малу довжину хвилі світла (13,5 нм) для друку зображень на кремнієвих пластинках. Це потрібно, оскільки мала довжина хвилі EUV, менша за розмір функції, значно полегшує друк і має важливе значення для досягнення роздільної здатності шаблонів для передових технологічних вузлів виробництва, таких як 5 нм, 3 нм і далі.

Calibre моделює всі унікальні оптичні ефекти EUV, такі як відблиск, який включає ефекти як короткої, так і далекої дальності. Calibre підтримує динамічну генерацію моделей для методу декомпозиції доменів, що дозволяє безперервно моделювати азимутальний кут, аберації, аподизацію та зміну джерела по щілині без втрати точності. Ефекти 3D-маски, такі як ефект затінення, викликаний поглиначем товстої маски та освітлення поза осі, яке змінюється по щілині, можна точно компенсувати. Calibre також моделює ефект чорної облямівки, щоб усунути вплив зображення за допомогою OPC. Калібр також підготовлений для високого NA EUV. Calibre оснащений новими функціями та функціями для підтримки анаморфної оптики від моделювання через OPC.

SRAF, ймовірно, є вимогою для вузла 5 нм і нижче в літографії EUV. SRAF позитивно впливають на нахил журналу зображення (ILS), тим самим зменшуючи шорсткість краю лінії (LER) та покращуючи глибину фокусування (DOF). Через осьове освітлення EUV та різні ефекти затінення через розщеплення можуть знадобитися асиметричні SRAF як у горизонтальному, так і у вертикальному напрямках, а різні SRAF можуть знадобитися в різних місцях щілин.

Рішення SRAF від Calibre може використовувати моделі EUV для розміщення SRAF. Calibre PxOPC може генерувати асиметричні SRAF і може бути налаштовано відповідно до націлювання на DOF, ILS або поєднання цілей. Calibre nmSraf може генерувати SRAF на основі правил, використовуючи результати PxoPC як шаблон, і може розміщувати SRAF асиметрично. Calibre NMCLSraf забезпечує гнучкість для форм SRAF у вільній формі з двигуна зворотної літографії. Він послідовно застосовує шаблони, виконуючи очищення конфліктів MRC і може генерувати криволінійні SRAF на масках EUV.

EUV з високою NA (числовою діафрагмою) - це еволюція літографії EUV (від сьогоднішньої 0,33 NA до> = 0,5 NA), яка необхідна для досягнення роздільної здатності малюнка для передових технологічних вузлів. Калібр вже підготовлений для високого NA EUV. Продукти моделювання та синтезу масок Calibre вже підтримують анаморфну оптику від моделювання через OPC до MPC/MDP. Оптимізація маски джерела Calibre EUV з багатьма шаблонами перевірена виробництвом, а оптимізація маски джерела Calibre (SMO) також включає розширені функції для EUV з високим вмістом NA.

Calibre пропонує повну конструкцію через виробничий процес для застосувань EUV. Рішення Calibre EUV вирішують проблеми, надаючи:

Повна підтримка моделювання EUV - Технологія моделювання Calibre повністю підтримує всі ефекти EUV, включаючи ефект відблиску, ефекту чорної межі та ефекти 3D-маски.

Комплексний пакет продуктів - Усі модельовані ефекти враховуються в продуктах Calibre, як-от Calibre PxSMo, Calibre PxOpc, Calibre nMOPC, Calibre nmRaf та Calibre opcVerify, які сьогодні використовуються у стрічковому записі.

Ієрархічна обробка даних - Потік EUV Calibre розроблений відповідно до основної ієрархії, використовуючи повні глобальні моделі EUV, що забезпечує швидкий і точний потік OPC.

Криволінійна обробка даних - Calibre Curvilinear Data Preparation Solutions можна ввімкнути в усьому потоці стрічки масок EUV.

Використовуйте AI для точності наступного вузла - Calibre EUV включає передові методи машинного навчання для прискорення синтезу масок, що значно покращує час виконання, зберігаючи якість літографії.