Översikt
Calibre nmCLMPC
Maskprocesskorrigering (MPC) säkerställer maskmönstertrohet för avancerad nodmasktillverkning. Calibre NMCLMPC tillhandahåller den nödvändiga kapaciteten för kröklinjig maskprocesskorrigering för att uppfylla förväntningarna på korrigeringsnoggrannhet såväl som för bearbetningstid.
Kontakta vårt tekniska team: 1-800-547-3000
Maskprocesskorrigering (MPC) för krökta mönster
Calibre NMCLMPC utför Mask Process Correction (MPC) för indatalayouter med krökta polygoner, till exempel de som produceras av Inverse Lithography Technology (ILT) OPC, samt kiselfotoniska strukturer.
Innovativ krökningsbaserad fragmentering
Den krökningsbaserade fragmenteringen i Calibre NMCLMPC-motorn bestämmer kantfragmentets längd baserat på lokal krökning och ger utdata som är möjliga för krökt MPC-korrigering. Den här funktionen försöker optimera filstorlek, noggrannhet och exekveringstid för kurvlinjär maskprocesskorrigering.
Möjlighet att uppnå snabb konvergens
Calibre NMCLMPC kan användas med kurvbaserad förförspänning för att möjliggöra snabb konvergens för krökt MPC. Den kurvbaserade pre-bias-metoden minskar antalet iterationer som krävs utan att försämra korrigeringsnoggrannheten och sparar körtid.
Möjlighet till samtidig korrigering
Caliber NMCLMPC kan korrigera krökta och rektangulära former i en körning och tillämpa samma regler som i ett standardrecept på de rektangulära formerna.
Är du redo att lära dig mer om Calibre?
Vi står redo att svara på dina frågor! Kom i kontakt med vårt team idag
Ring: 1-800-547-3000
Calibre konsulttjänster
Vi hjälper dig att anta, distribuera, anpassa och optimera dina komplexa designmiljöer. Direkt tillgång till teknik och produktutveckling gör att vi kan utnyttja djup domän- och ämnesexpertis.
Supportcenter
Siemens Support Center ger dig allt på en lättanvänd plats -
kunskapsbas, produktuppdateringar, dokumentation, supportärenden, licens/beställningsinformation med mera.
Kaliber IC Design & Tillverkning
Verktygssviten Calibre ger exakt, effektiv, omfattande IC-verifiering och optimering över alla processnoder och designstilar samtidigt som resursanvändning och bandutningsscheman minimeras.