Multi-beam mask writers (MBMW) möjliggör användning av ideala krökta former för invers litografi (ILT) masker, men nuvarande layoutformat är inte tillräckliga för att representera komplexa ILT-konstruktioner effektivt från optisk närhetskorrigering (OPC) till masktillverkning. År 2019 initierade vi en arbetsgrupp för dataformat för att ta itu med behovet av krökt datarepresentation för MBMW. Arbetsgruppen Curvilinear Data Format har medlemmar från EDA-företag och avancerade masktillverkare. I denna uppsats kommer nödvändigheten av ett nytt krökt dataformat och målen för vår arbetsgrupp att introduceras. Vi kommer att diskutera framstegen och arbetsgruppens plan. En version av denna uppsats presenterades vid IEEE SPIE-konferensen 2021 och publicerades i konferensförfarandena.
