Produkt
all
Calibre EUV
Omfattande stöd för att ta itu med de unika utmaningarna med EUV med hög NA, såsom anamorf optik och maskera 3D-modellering för att ta hänsyn till skuggningseffekter.
Calibre Computational Lithography
Den omättliga efterfrågan på integrerade kretsar (IC) fortsätter att driva mindre kritiska dimensioner. Fotolitografiprocesser, inklusive extrem ultraviolett (EUV), presenterar allt mer komplexitet och datavolym. Våra beräkningslitografilösningar möjliggör kostnadseffektiv teknikaktivering.
Calibre Computational Lithography Produkter
Både de litografiska utmaningarna och den beräkningskomplexitet som är förknippad med avancerade processnoder skapar ett behov av avancerade funktioner inom programvara och hårdvara för beräkningslitografi. Calibre-lösningen erbjuder klassens bästa noggrannhet, hastighet och ägandekostnad.
Produkt
all
Calibre nmOPC
Tät optisk närhet och processkorrigering för att möjliggöra djup submikrontillverkning.
Produkt
all
Calibre nmSRAF
Infogar underupplösningsassistentfunktioner (SRAF) i en design.
Produkt
all
Calibre OPCverify
Kraftfull simulering med full chip och litografisk analys.
Produkt
all
Calibre WORKbench
GUI används för att starta en mängd olika applikationer och för att visa resultat.
Produkt
all
Kaliber NMModelFlow
Mycket skalbar kalibreringsmotor för optiska modeller, motstånd och etsmodeller.
Produkt
all
Calibre pxOPC
Snabb, invers pixelbaserad optisk närhetskorrigering.
Produkt
all
Calibre pxSMO and RET Selection
Lätt att använda GUI för optimering av belysningskälla.