Calibre EUV

EUV, eller Extreme Ultraviolet, litografi är en teknik som använder en mycket liten våglängd av ljus (13,5 nm) för att skriva ut bilder på kiselplattor. Det behövs eftersom EUV: s lilla våglängd, som är mindre än funktionsstorleken, gör utskriften mycket enklare och är avgörande för att uppnå mönsterupplösning för avancerade tillverkningstekniska noder som 5nm, 3nm och därefter.

Calibre modellerar alla unika EUV-optiska effekter som flare, som inkluderar både kort- och långdistanseffekter. Calibre stöder dynamisk modellgenerering för domännedbrytningsmetod för att möjliggöra kontinuerlig modellering av azimutvinkel, avvikelser, apodisering och källvariationen över slitsen utan förlust av noggrannhet. 3D-maskeffekter som skuggningseffekten orsakad av den tjocka maskabsorberaren och belysning utanför axeln, som varierar över slitsen, kan kompenseras exakt. Caliber modellerar också den svarta kanteffekten för att eliminera dess bildpåverkan genom OPC. Kaliber är också förberedd för High NA EUV. Caliber är utrustad med nya funktioner och funktioner för att stödja anamorfisk optik från modellering till OPC.

SRAF är sannolikt ett krav för 5nm-noden och nedan i EUV-litografi. SRAF har en positiv inverkan på bildeloggens lutning (ILS) och minskar därmed linjekantgrovheten (LER) och förbättrar fokusdjupet (DOF). På grund av EUV:s belysning utanför axeln och varierande skuggningseffekter genom split kan asymmetriska SRAF behövas i både horisontella och vertikala riktningar, och olika SRAF kan krävas på olika slitsplatser.

Calibers SRAF-lösning kan använda EUV-modeller för SRAF-placering. Calibre PxOPC kan generera asymmetriska SRAF: er och kan justeras för att rikta sig till DOF, ILS eller en blandning av mål. Calibre NMSraf kan generera regelbaserade SRAF med hjälp av PxOPC-resultat som mall och kan placera SRAF asymmetriskt. Caliber NMCLSraf ger flexibilitet för friformade SRAF-former från Inverse Lithography-motorn. Den tillämpar mallar sekventiellt, utför rensning för MRC-konflikter och kan generera krökta SRAF på EUV-masker.

Hög NA (Numerical Aperture) EUV är en utveckling av EUV-litografi (från dagens 0,33 NA till> = 0,5 NA) som krävs för att uppnå mönsterupplösning för avancerad tekniknod. Caliber är redan förberedd för High NA EUV. Calibers modellerings- och masksyntesprodukter stöder redan anamorf optik från modellering genom OPC och till MPC/MDP. Caliber EUV OPC med flera mönster är tillverkningsbeprövad och Calibre Source Mask Optimization (SMO) innehåller också avancerade funktioner för EUV med hög NA.

Calibre erbjuder en komplett design genom tillverkningsflöde för EUV-applikationer. Calibers EUV-lösningar hanterar utmaningar genom att tillhandahålla:

Fullt modelleringsstöd för EUV - Calibers modelleringsteknik stöder fullt ut alla EUV-effekter inklusive flare, svart kanteffekt och 3D-maskeffekter.

Omfattande produktsvit - Alla modellerade effekter redovisas i Calibre-produkter som Calibre PxSMo, Calibre PxOPC, Caliber nMOPC, Caliber NMSraf och Calibre OPCVerify, som används i banduttagning idag.

Hierarkisk databehandling - Calibre EUV-flöde är uppbyggt efter huvudhierarkin samtidigt som man använder fullständiga globala EUV-modeller, vilket möjliggör snabbt och exakt OPC-flöde.

Kurvlinjär databehandling - Calibre Curvilinear Data Preparation Solutions kan aktiveras över hela EUV-maskbandsflödet.

Utnyttja AI för nästa nods noggrannhet - Calibre EUV innehåller avancerade maskininlärningstekniker för att påskynda masksyntes, vilket ger betydande förbättringar i körtiden samtidigt som litografikvaliteten bibehålls.