Pisači maski sa više zraka (MBMV) omogućavaju upotrebu idealnih krivolinijskih oblika za maske inverzne litografije (ILT), ali trenutni formati izgleda nisu dovoljni da efikasno predstavljaju složene ILT dizajne od optičke korekcije blizine (OPC) do izrade maski. U 2019. godini pokrenuli smo radnu grupu za format podataka kako bismo odgovorili na potrebu za krivolinijskim predstavljanjem podataka za MBMV. Radna grupa Curvilinear Data Format ima članove iz EDA kompanija i naprednih proizvođača maski. U ovom radu biće predstavljena potreba novog krivolinijskog formata podataka i ciljevi naše radne grupe. Razgovaraćemo o napretku i planu radne grupe. Verzija ovog rada predstavljena je na IEEE SPIE konferenciji 2021. godine i objavljena u zborniku konferencije.



